成都华虹十厂光刻机怎么获取

华宏集团的使命不是仅仅建设一座芯片厂那么简单，他还要为中国建设起一个半导体产业的系统工程。 胡起立认为，引进某高科技项目往往首先导向为填补国内该领域的空白，容易导致从技术出发忽视市场导向。如果与市场不合拍，即使技术水平更高， 也得不到市场的回报，就会被淘汰出局。因此，华红 anic 从一开始就将市场化作为首要考虑的问题，找外资合作伙伴，要求负责产品包销， 并要求在两万片的精源产能中，有百分之二十的比例为国内芯片设计公司服务。在产线还没施工前就做芯片设计，承接政务系统 所需 se 卡，如社保卡、公交卡等中国移动 sim 卡等国内研发任务，帮助日电寻找半导体元器件的销路，为在中国的日本电子企业提供本地化服务等。 华红 mc 需要提前为自己的产线寻找日电之外的加工需求，以保证工厂产能得到充分的利用。 因此，华宏集团在与日电合资建设芯片厂的同时，还成立了包括芯片设计、 芯片销售、公益研发等业务的多家子公司以及国际分公司，为华宏艾尼斯构建了一个颇为完善的芯片生态系统。这个生态系统很好的分散了过度依赖单一外商所带来的经营风险，培 预期中国本土的芯片设计企业，并为他们提供经源代工服务。特别值得一提的是华宏集团在芯片设计上的探索。华宏集团在上海和北京分别设立了被称作南华宏和北华宏的两家芯片设计公司。 考虑到芯片设计的巨大难度和国内芯片设计人才的匮乏，南华宏选择了国内市场急需、 设计难度较小且能体现国家意志的芯片作为切入点，以 se 卡芯片、通信芯片等作为产品开发方向。中国自实施金卡工程以来， se 卡的生产和应用发展迅猛， 但市场管理混乱，缺乏统一规划，行业分工不清，而且大部分市场都被国外 i c 卡占据。埃斯卡关系到国家安全和经济命脉，为此，电子工业部对埃斯卡市场进行整顿，制定相关标准，实行生产定点和许可证制度。一九九七年三月， 国务院会议决定全国组织机构代码和社会保障号码一律使用 ic 卡，并指定将由华宏集团来生产。 上海市将公共交通卡和社保卡的芯片设计交给南华红来完成。南华红在不到一年的时间里，就设计出中国第一枚具有完全自主知识产权的非接触式 ic 卡芯片。二零零一年一月， 华宏 a n c 试制 ic 卡成功，这标志着我国智能 ic 卡应用结束了完全依赖国外进口的历史，从 公司走上独立自主的道路。在华红实施公交一卡通项目之前，上海市的地铁一号线已经安装了美国某公司的系统，有关部门已经采购了近两千万美元的使用外国芯片的 se 卡及设备。 为了推广具有自主知识产权的芯片，在上海市的支持下，南华红对上海地铁一号线的售检票系统进行改造。 美国供应商不愿配合，上海市政府便决定将在地铁一号线检票口另开几个专用南华宏设计的交通卡的通道，迫使美国供应商回到谈判桌， 最终同意提供相应的技术接口资料，并改造其集聚已兼容南华红设计的公交卡。南华红还为上海市社会 保障卡工程的实施设计了芯片，这也是国内最早的具有自主知识产权的社保卡芯片。上海公交易卡通和社保卡项目成功之后，南华宏走出上海，为无锡等式设计公交卡，为广州设计 ic 卡赞助证。 南华红还承接了公安部第二代居民身份证芯片的设计任务。二零零一年，南华红营收过亿元。 二零零四年，南华宏又攻下了金融和电子政务系统的一个重要应用产品 usb 接口的加密锁， 正式入围中国工商银行和中国建设银行的芯片供应商。北华宏于二零零二年底入围中国移动和中国联通的供应商后， 次年集销售 sim 卡三百二十万张，实现两千五百万元的销售收入。二零零四年被华宏销售额过亿元， 还实现了向全球最大的埃斯卡公司法国金普斯、詹普斯的供货。华宏集团将中国芯片供应受制于人的局面打开了一个缺口。 此前我们的手机里用的那张小小的 sim 卡，中国自己还生产部了全部必须进口，平均价格为八十二元。 在华宏 anic 打破进口依赖后，国内 sim 卡平均价格跌到了八点一元。八 kb 容量的 ic 卡芯片原本价格高达四五美元。在华宏 anic 能生产后，三十二 kb 容量的 ic 卡芯片的价格也才不到 亿美元。中国在智能埃斯卡领域已经建立了从芯片设计、生产模块与埃斯卡片制造、读写极具研制到应用系统、软件开发的一个完整的产业链。华宏集团占据了国内埃斯卡市场百分之八十以上的份额。 华宏艾尼斯为中国的艾斯卡事业做出了卓越的贡献。当日店不再能够为华宏艾尼斯解决销路问题的时候，胡起立两条腿，走路的先见之明发挥了作用。 二零零四年，华宏 anyc 摆脱了持续四年的龟损，实现了八千多万元的盈利。同一年，不重视市场拓展的首钢 anyc 退出芯片圈。二零零五年，华宏 anyc 开始为中国第二代 居民身份证供应芯片，而这是一个规模达两百亿元的大市场。仅在二零一零年就有六家研发起步于华宏 anic， 并一直委托华宏 anic 代工的芯片设计公司成功在国内外上市。 虽然华宏艾尼斯的产线与国外相比还很落后，但华宏集团在芯片产业生态构建、国产化替代、 市场化运作等方面的探索取得了相当的成功。此外，华宏集团还为中国培养了众多的芯片业人才。作为一家国有企业， 华宏在国家战略与市场化之间做了较好的平衡。我们知道，美国信息产业之所以能够在全球保持领先地位，与其完善的风险投资机制 有着很大的关系。风险投资是伴随着高新技术产业而出现的一种新型的投资方式。高新技术企业的成本主要是人工开支，往往没有什么固定资产，也就很难从银行借到钱。 所以风险投资与以往的投资机制不同，他主要投资于拥有很强的技术团队、具有高成长性但缺乏资金来源的中小企业。在企业达到一定规模能够上市后则会退出，主要赚取股权增值收益。 从英特尔、苹果、微软到斯科，许多著名的 it 企业都是依托风险投资成长起来的。中国信息产业的崛起也离不开本土风险投资机构的扶持。 很少有人知道，作为国有企业的华宏集团，竟然也是中国最早做风险投资的企业之一。一开始，由于中国芯片设计不发达，华宏集团就想在硅谷设立一家芯片设计公司， 为自己的芯片厂拿金源代工订单，为此在硅谷成立了一家名叫华宏国际的公司。 后来发现，如果想在美国开一家芯片设计公司，从人员到运营投入三百万美元，仅够用两年，还不一定能够出成果。 于是胡起立想到，既然自己投资设立设计公司风险太大，是不是可以通过投资已经成立的设计公司的方式来实现我们的目的呢？这时候， 正好有几个打算归国做通信专用芯片设计的海外华人找上门来，希望得到华宏集团的支持。 胡起立拍板决定投入一百五十万美元，华宏集团成为这家名为上海新涛科技公司的芯片设计公司的发起人之一及第二大股东。由于没有适当的法规可循，华宏集团的资金不得不由华宏国际投资设在美国的新涛总部， 在由新涛总部将资金转入上海新涛。一九九九年四月，新涛向松下出售了第一批芯片， 开创了中国芯片出口发达国家的先河。二零零一年四月，新涛被美国 idt 科技有限公司 ade 八千五百万美元的价格收购，华红的 投资在不到三年的时间里收获了八倍的回报。这一事件实现了国内半导体设计产业的投资体制创新。他在国内首创了国有企业进行国际风险投资， 利用刘美华人的智力和经验及其在国内创业的机会，取得投资成功的范例，增强了国外风险投资公司来中国投资和刘美华人学者归国创业的信心。加上国务院及时出台了鼓励软件产业和集成电路产业发展的十八号文件， 一时间，外资、合资、国资的芯片设计企业如雨后春笋般的涌现。一九九九，华宏向美国豪威科技俺们的微站投资了一百五十万美元。豪威科技的 主要创始人多半出身于摩托罗拉，擅长做手机摄像头芯片。豪威科技在纳斯达可成功上市后，华宏逐步退出，综合回报率在三倍以上。 在当时的中国国有企业的海外投资中，华宏的投资行为被认为是最成功的一个，不仅没有亏本，还赚了很多钱，这是很难得的。 ic 卡芯片、 sim 卡芯片和身份证芯片的设计难度都不大。 芯片设计中难度最高的是处理器，个人电脑的处理器芯片被英特尔和超威长期高度垄断，手机处理器芯片的设计难度比电脑处理器芯片更高。智能手机的 cpu 由应用芯片和基带芯片组 成，前者负责执行操作系统和应用程序，相当于电脑的处理器，但比电脑处理器增加了低能耗、小体积的要求。 后者也就是手机的调制解调器，负责处理各种通信协议，让手机能够与移动通信网络连接。无论是功能手机还是智能手机，基带芯片都是一部手机中设计难度最大、 专利门槛最高的芯片。北华红也是中国最早尝试做手机基带芯片设计的企业之一。一九九八年十二月， 信息产业部和国家纪委联合发出了关于加快移动通信产业发展的若干意见，提出要大力扶持具有自主知识产权的移动通信产品的发展。 一九九九年，在信息产业部电子发展基金专项二点五 g 手机核心技术项目的招标中，被华宏成为唯一一家中标的集成电路设计企业， 随后被华宏和德州仪器合作开发二点五 g 手机基带芯片。后来发现设计难度太大，至少需要两年时间才能做出产品，做出来后还不一定有价格竞争力或获得市场应用。 于是北华宏才转向设计比较低端的通信智能卡芯片。当时中国正准备推自己的三 g 移动通信标准，因此必须要有相应的手机基带芯片配套。有国家支持背景的北华宏尚且知难而退， 中国还能有自己的手机基带芯片设计企业吗？中国心到底能不能制造出来？我们能迈出成功的那一步吗？让我们下期再见。

我国光刻机难题或将得到解决，今天我就用最直白的语言告诉你三纳米芯片是怎么做出来的。当荷兰阿斯麦公司看到清华大学这篇论文，他们慌了，全世界都慌了，有的欢喜有的愁。曾经他们扬言，就算把光刻机的图纸给我们，我们也造不出来。现 现在看来，主要还是因为这些年我们所有人把创造思维太局限化了。光刻机，顾名思义，简单形容就是用光在晶原上刻制晶体管电路的一台机器。而 每一家科技公司做梦都在琢磨怎么样才能做出这样的一台机器。但不得不说，这个光刻机的复杂及精密程度的确是大家望尘莫及的。制造出的芯片复杂精密到什么程度呢？这么说吧，他可以在一个指 盖大小的龟片上安装上百一个晶体管及其他部件，而且做出的芯片上每一个部位都有不同的功能。也正因为如此，华为才会被他们这样极限打压三年，直到清华大学这篇论文一出，瞬间让全球芯片行业发生了大震荡。我不 不是专业的，很多专业术语确实讲不来，但是我尽可能用最直白的话，以及相对应的例子，尽量让大家明白目前是什么情况。首先大家需要明白，既然叫光客，首先一定要有光，为什么要用光呢？因为他快。在我们所处的宇宙中，光一直被视为速度的极限。那我们应该怎样去驾驭这虚无缥缈的光， 用它来刻出芯片的呢？答案是通过光眼膜、光刻机和光刻胶。光刻胶是一张刻有集成电路版图的玻璃遮光板光刻机就好比一台纳米级别的微型打印机，发光，将光眼膜上的图形投射到龟片上。而光 刻胶则是能把光影化为现实的一种胶体。它是一种见光就死的材料，在暗中坚硬，但是只要被特定波长的光照射住，就会柔软下来，继而被溶解清除。就是利用了这个原理，我们便能利用光来雕刻特定的芯片。举个例子，如果我们需要做一个沟槽式的内存芯片，首先就得在平整的龟片上挖出几千个坑道来做电容器举。 那么如何通过光刻技术，在一平方毫米的地方同时挖出成千上万个间距跟深度一致的坑呢？首先，我们需要在龟片上涂上一层光刻胶，再照上光眼膜进行曝光，也就是让光线按照光 眼膜上设计好的坑位，通过最终照射在光刻胶上，被照射到的这部分胶体就会变得柔软，然后被溶剂清除。而没有照射到的光刻胶依然坚硬的存在，便成为了保护膜。接下来，只要用能腐蚀硅胶的溶剂把没有光刻胶保护的坑位区域腐蚀掉一层， 最后再把光刻胶保护膜清除，我们就在同一时间里完成了大量深坑的精确雕刻工作。这种光刻后对龟片定向做减法的腐蚀叫刻实。 同样，我们也可以对龟片做加法来造坑，比如通入化学气体，通过一些化学反应，在龟片上均匀生长出一层物质，此时没被光刻胶保护的部分厚度增加，而长在光刻胶保护膜上的物质会随着之后胶体的清出而一同被清出，相当于厚度不变，这种 定向做加法叫做沉积。刻实与沉积都是芯片制造的重要工序，所以总的来说，光刻即刻的其实不是龟片，而是龟片上的这一层光刻胶。然后把刻好的光刻胶作为集成蓝图，再结合下一步进行操作。比如为了给半导体归赋予电的特性，我们还要在刻好的蓝图特定区域注入离子，这 些工作都需要先进行光刻，同时有不需要注入离子的区域，我们只需要放上一层光刻胶作为贴膜进行保护即可。说到这里，大家清楚光刻的重要性了吗？制作出一枚完整的芯片就光 光光光刻就占据了一半的工时以及三分之一的成本。最后光刻流程我们总结一下，其实也很简单，主要就三个步骤，涂胶、曝光、冲洗。是不是这就完事呢？ 也不是我们说起来简单，但操作起来就没那么容易了，因为我们每做一次都有太多太复杂的步骤，不然也不会说光刻机比原子弹更难制造了，一台就是十多亿人民币。就比如对龟片清洁与表面欲处理，而 而他对于清洁度的要求远远超过了全球最先进的手术室，而且还不是用水或酒精清洁那么简单。那么到此，光刻的大致逻辑我们已经讲完，如果让你学到了点知识，别忘了帮忙点 点赞，那么是不是光刻机制造就这么简单呢？当然不是，还有我们要用什么光来雕刻？光从哪里来？我们又应该怎样驾驭这虚无缥缈的光？同样是一个极为重要的环节，还有清华大学给出的这篇论文提出的解决方案，为什么会让全世界的芯片产业发生大震荡？由于视频时常原因，我们明天接着聊。

来自行业内小道消息，清华大学提出了一种可以颠覆世界的光刻机方案，也就是用一台加速器，光源带几十台光刻机组成一个光刻厂。这种阵列式的思维啊，完全打破了原光刻机 必须精细化的思维，一旦量产啊，不管你是什么七纳米的，三纳米的，还是一纳米的都能做，这是一种力大装飞的思路。而荷兰阿斯麦的光刻机呢，因为出售必须要将光刻机啊进行小型化，而我们的方案呢，是将光刻机啊当做超级工程来做，就像建造上下大坝一样，这个方案一旦落地啊， 西方几十年形成的技术霸权将彻底崩盘。他们怎么也不会想到啊，世界上还有这么天才的想法。当所有人都朝着七纳米，三纳米，一纳米前进， 而我们把机器呢做成一种庞然大物，组成阵列，在这个阵列里面，如果我们想要做的更精细的话，我只要让光啊多跑几圈，然后在里面总有一个能跑出七纳米，这个简直太厉害了，有可能彻底颠覆整个世界。

最近，清华大学的 e u v 光源和大型光刻厂的方案引发了极高的热度。虽说这个方案目前还处于论证的阶段，但如果最后真的获得了 e u v 光源，那对中国的光刻机发展来讲，毫无疑问是往前走了一大步，因为光源对于光刻机来讲，是提高制成最为关键的一环。 哈喽，大家好，我是亦凡。不管是六十五纳米的 aif 光刻机，还是三纳米的 euv 光刻机，都脱离不了瑞丽公式的制约。 不管你的设备有多先进，影响光刻机制成的主要就是三个变量，而其中最容易获得突破的就是这个光源锐利。第一公式 c d 等于 k 一乘以 land 除以 n a， c d 可以 理解为光刻机的制成。 k 一是一个工艺因子， lamda 就是光源的波长， na 是镜头的数值孔径。从数学公式我们可以得出推论只要降低 k 一和 lamda， 提高 na， 就可以把光刻机的制成做得更小。但实际情况并没有那么简单。 k 一是一个有物理极限的因子，他跟光刻系统的光照条件、研磨板和光刻胶的工艺有很大的关系，并且当这个参数低于零点三的时候，会影响良品率。阿斯麦认为零点二五就是 k 一的极限值。事实上，目前多种工艺下的 k 一极限值就是零点二五，没法再降低 n a 也是一个没法无限变大的因子。因为参考瑞丽第二公式 d o f， 也就是成像的质量和 n a 的平方成反比， n a 越大，成像质量就会越差。所以通过无限增大 n a 来获得更小的光刻机制成并不现实，现在已经用在光刻机上的先进工艺，比如把镜头的尺寸做的很大，镜头表面打磨的异常光滑，采用静默式光刻技术等等，其实都是在想方设法提高 na， 但技术发展到如今的水平，想要再有大的突破已经非常的困难， 所以最后的救命稻草就是继续想办法降低光源的波长。 land 光刻机的光源发展到现在已经到了第五代，从最初的拱灯光源到 krf 和 arf 深紫外线光源，再到现在的 euv 极紫外线光源。 为什么说光源的质量直接决定光刻机的制成，就是因为瑞丽公式的存在，决定了三个变量中唯有光源的波长。莱恩达是最容易获得突破的一个清华的 euv 方案虽然最终获得的并不是纯净的 euv 光源，而是各 各种波长的光源都有，但我们最终的目标并不是卖光刻机，而是制造芯片。这个大光客场方案我认为适合中国，因为中国的市场足够大，从三纳米到一百三十纳米的芯片我们都会用到清华的这个方案真的是充满了中国的智慧。 如果你喜欢本期视频的内容，别忘记帮一凡点一个赞，好了，那我们下期视频再见！

这就是全球最先进的光刻机，如果我们能买到它，就能把芯片造出来。那这第一步我们得先在电脑上用 eta 软件设计出芯片的电路图。注意啊，这里面包含了数亿根晶体管的分布和结构设计，不能出一丁点的差错， 设计完以后还必须用软件进行测试，检查整个芯片的设计是不是存在 bug。 接着我们就要去买一堆石英砂，它的主要成分是二氧化硅，但不能直接使用建筑用的砂子，因为它的纯度太低， 还需要去买几十吨的煤炭和木屑，把石英砂、煤炭和木屑按照一定的比例混入到石磨矿热炉里，加热到两千度左右，经过一系列的还原反应，我们就可以提取到纯度百分之九十九的，以炼级工业规定，那再经过反复的酸化蒸馏，我们 就能够得到纯度六个九的多金龟龟豹，那他呢？只适合用来制作太阳能板。要想用来制造芯片，还必须继续提船，那再经过融化、提拉、冷却以后，就可 可以得到这种两头呈锥形状的芯片级单晶龟龟蚌，它的纯度可以达到十一个九。注意，这种龟蚌的直径越大，相对应的难度也就越大，我们后面能够切出来的龟片也就越大，单个龟片上能够生产的芯片自然也就越多，芯片的制造成本也 相应的越低。接着我们用专门的切割仪器将单晶龟龟棒切成芯片级的龟片，再将龟片进行滚磨、腐蚀、抛光等几十个步骤以后，才能够得到制造芯片的精源。 晶源的表面还得进行氧化，然后再打上一层光刻胶，那到这一步，用来制造芯片的晶源就准备好了。接着还需要制作光刻眼膜板，把我们之前设计好的电路图刻在眼膜板上，他的作用呢？就是将电路图最终刻在晶源上。那好，现在就可以把我们买到的 uv 光刻机拿出来了， 一台售价大概需要十几亿人民币，仅内部零件就超过了十万个，集结了全球近五千家供应商才能组装一台。所以 说你想要靠自己的力量去制造一台难度极大。接下来打开光刻机，把我们准备好的晶源和光刻眼膜板放进去。光刻机将紫外线通过眼膜板，再透过光学镜片把设计好的电路图光刻在晶源上，在这个过程中，晶源表面的光刻胶会发生化学反应，被 溶解掉。接下来就是课时用闲影液将溶解掉的光刻胶去除掉，那光刻胶下面的氧化膜需要通过与气体反应才能去除掉。这个时候就有了第一层电路图。 接下来用磷或者是棚注入到第一层结构中，再填充铜，并将多余的铜进行抛光，最后再用脚丫膜进行覆盖， 芯片的第一层就算完成了，然后重新涂上光刻胶，不断重复之前的过程，最终你看到的芯片会是这个样子的。那芯片的制成越先进，他的层数也就越多，最多的已经超过了三十层。最后我们就制造出了一个不满芯片的精元，然后对精元进行切片，把它分割成多 单独的芯片，每个芯片都要进行封装测试，没有问题的话，一个三纳米的芯片就制造好了。其实一颗芯片的制造比我们现在说的要难很多，它里面的复杂程度堪比一座大型城市，而且不允许出现任何的错误。问题是我们怎样才能买到这台最先进的光刻机呢？

要是论名气，这家国产半导体公司那是比不上中兴国际，但他在国内半导体市场发挥的作用却一点也不比中兴国际差。 虽然这家公司并没有参与先进公益的比拼，不过另辟西径，照样能三个月吸进十九亿。中国半导体界不是只有中兴国际，今天我们来聊聊这家被严重低估了的国产芯片巨头，华虹半导体。 哈喽，大家好，欢迎收看本期视频。说起中国的半导体巨头，你最先想到的会是谁？我想大多数人最先说出的应该都是中兴国际的名字。 的确，很长一段时间以来，中兴国际都被看作中国半导体产业中的代表，是国产芯片制造领域唯一的希望。 但事实上，半导体产业所涵盖的市场和产品种类都非常宽广。除了中兴国际外，中国大陆还有一家半导体代工厂在半导体产业链中发挥着重要作用，他就是华虹半导体。 公开资料显示，华宏半导体专注于嵌入式非意识性储存器、功率器件模拟于电源管理和逻辑及射频等产品制造。 值得注意的是，这家公司对先进工艺并没有依赖。对于这一点，我需要给大家着重解释一下。花红半导体对先进工艺没有依赖，也可以理解为坚守特色工艺路线。 有相关飞机指出，未来半导体工艺发展有两个方向，一是像台机电那样的继续小型化，第二种就是华虹半导体这种聚焦特色工艺来满足多样化需求。现在中兴国际则是专注在芯片 成熟制成方面。目前来看，四十五纳米及以下的成熟制成贡献了中兴国际百分之八十八点七的营收。所以如果单从发展业务上来看，华宏半导体和其他的芯片巨头还是有很大不同的。不过大家也不要小瞧这家中国公司， 虽然华宏半导体名气不及中兴国际，算是国内最被低估的国产芯片巨头，但华宏半导体在国内半导体市场发挥的作用却不比中兴国际差。 根据官方发布的二零二一年第一季度财报显示，花红半导体在今年前三个月成功吸金十九亿，同比增长超过百分之五十。 值得一提的是，官方预计这种营收增长趋势还会继续下去。那么华宏半导体为什么对自身发展如此自信呢？主要原因在于当前华宏半导体 全线产品都有非常强劲的市场需求，而且华宏半导体的产能也在稳步提升。根据相关报道，华宏半导体在二零二零年就开始对部分工厂扩充产能，并且在未来两年产能提升都将是华宏半导体的主要任务。 以无锡工厂为例，目前这家工厂十二英寸金元月产量已经升至四万片，而在花红半导体的计划中，无锡工厂产能在明年就能达到八万片。 华虹半导体之所以如此的执着于扩充产能，一方面是因为看到了芯片危机，短期半导体产品需求提升是必然趋势，另一方面则是注意到了中国半导体市场的巨大发展前景。 按照规划，未来我国芯片自己率将从百分之三十提升到百分之七十，国产半导体厂商会成为市场上的 香饽饽，花红半导体有必要为迎接新市场提前进步布局，而且一环扣一环，接下来芯片危机也会引发相关芯片的出货价格上涨。在这种情况下，花红半导体也会凭借销量和出货量优势，快速提升自己的营收，获得更多的利润， 然后划红半导体再把这些利润以研发投入的形式来提高生产效率，帮助自己抢下更大的市场，赢得更多的话语权。 结合刚才的结论，我大胆的预想，在二零二一年，花红半导体也会迎来在芯片市场上的新起点，因为它不仅会在传统行业大步向前发展，而 而且还有望借助智能汽车产业的崛起。现在智能汽车行业可算是发展的如火如荼，这将是一片十分广阔的市场。根据相关调研机构的数据显 是，光是二零一七年汽车 ic 市场增的市场规模就达到了二百八十亿美元。在竞争不是十分激烈的汽车半导体行业，华虹半导体有望另辟西径，成为新的龙头厂商。接下来华虹半导体还会有怎样的表现，就让我们拭目以待。 你是否看好这家中国半导体企业未来的发展？欢迎在评论区留言参与讨论。如果你喜欢本期视频，欢迎点赞、关注、收藏，我们下期视频再见！

打光客的流程总结起来非常简单，涂胶、曝光、冲洗完事是但不完全是。在实际生产中，我们每做一次光客，至少要经过八个步骤，三次红北。 第一步是硅片清洁与表面玉处理。光客对于清洁度的要求远远超过最先进的手术室。如果你想知道什么才是真正的干净，可以看看上期视频，是洁净室的秘密。 所以光客前要给硅片洗个澡，先施法清洗，再用去离子水清洗，来去除吸附在硅片表面的污染物、上一道工序的残留物，以及溶剂中的金属离子等杂质。 之后在同一种叫做六甲机二硅胺丸的气体，简称 hmds， 经过这种气体熏蒸后，硅片表面会被充分脱水，因为表面清水枪机被置换成了输水机，这样硅片就能更好的粘附光刻胶， 所以这一步又称增年处理。之后，把过滤后的光刻胶滴在硅片中央，让硅片先高速转动，把胶体摊开，再以较慢的速度旋转，让胶体的厚度稳定。这个过程大部分光刻胶都会被甩出去浪费掉，只留一层均匀的胶体，相当于给硅片贴了个膜。 那请问贴膜最怕什么？请在弹幕大声告诉我！没错，最怕气泡，所以涂胶机器的转速控制和排风大小都非常讲究，因为光刻胶中一旦产生气泡，会影响后续工艺，造成诸如过度克时之类的问题。 来另一个问题，我在第二期视频讲硅片生产为什么要磨边时，提到国光刻胶在悬图时容易因为离心力在边缘处累积，这种堆积在边远甚至留到背面的光刻胶滴会影响硅片在光刻机中的曝光，所以涂胶完成后还要去边， 也就是在硅片边缘喷涂溶剂，去掉边缘处一圈的光刻胶。涂胶后要对硅片进行曝光前的烘焙，又称前烘。这一步，机械臂会把硅片拿出放在烤箱或者热板上进行烘焙，目的是减少光刻胶中的溶剂含量，让其更加浓稠坚固，提高与硅片附着的稳定性。 前烘一般只用一百度左右的温度烤一分钟，光刻胶是不耐高温的，大家记住，以后会烤。前烘完成后，光刻机上场对龟片进行曝光。本期视频由于篇幅限制，这里我用三句话概括一下光刻机里发生了什么。 一、光眼膜透镜组和龟片弓箭台会精密对准和调平。二、光源放光。三、移动弓箭台让龟片有序曝光。三句话让一台光壳机花了十亿元。可不要 小看这平平无奇的三句话，里面隐藏了人类工程学的众多巅峰之作。比如透镜表面起伏不超过零点零五纳米的蔡思透镜是地球文明最接近三体水滴的得意之作。 比如对准，能同步对准和曝光的双弓箭台系统，是阿斯麦打败日本光客机场商的法宝之一。比如光源由四十千瓦激光驱动的集子外光，是把液态吸烘成等离子体时发出的动感光波。 之后我会用两期视频来详细告诉你为什么光科技这么贵，里面到底用了哪些黑科技。 现在先回到我们的制成归片，从光客机出来后，还要经历一道曝光后的烘焙，简称后烘。这一步的目的是通过加热，让光客胶中的光化学反应充分完成，可以弥补曝光强度不足的问题，同时还能 减少逛客交嫌疑。以后因为助播效应产生了一圈圈纹路，这里听不懂没有关系，以后讲逛客交的那一期，记得回来补课 后轰。之后把之前曝光的部分溶解清除，光眼膜上的图形就浮现在了光客胶上，这就是显影和冲洗。 通常的做法是先用去离子水润湿硅变，然后把显眼液一般是四甲肌清氧化氨的水溶液均匀喷淋在光客胶表面，让光客中被曝光了部分充分溶解，最后再用去离子水冲走。 假如是四十五纳米以下的制成，因为尺寸太小，溶解残留物的比表面积过大，粘附力强，甩不掉冲不走，所以还要加喷氮气把它们吹走。 显影完成之后，如果是施法制成，还需要再烘焙一次，让保护膜更坚挺，更加顶得住课时，所以又称揭膜 烘焙，以此来进一步减少光客胶中的溶剂含量，防止多余的水分影响之后的施法克什。假如之后是等离子的克什，也就是俗称的干法，那这一步也可以省略。 最后还要用仪器测量光刻胶的膜后套刻精度以及关键尺寸。像七纳米、五纳米这样制成的线宽缺陷，用光学显微镜肯定不够看了，必须用精度更高的电子扫描显微镜，甚至是原子力显微镜才行。 光客交的分辨率必须达标，才能保证以此为蓝图的客时乘机或离子注入能顺利进行。而一张规片要反复经过上千次这样的操作，才能雕刻出数以亿计的电子器件及其对应的电路连接，最终成为我们手机里的一枚小小芯片。