荷兰光刻机新规震动全球半导体产业链：技术博弈下的产业困局与突围2025年10月31日，荷兰政府突然宣布全面升级对华光刻机出口管制，将DUV（深紫外）设备出口限制从7纳米制程扩大至14纳米，并将ASML（阿斯麦）1970i、1980i等中阶机型纳入许可证管理范畴。这一政策不仅将许可证审批周期延长至90天，更将测量检测设备、计算光刻软件等配套技术纳入“一刀切”管控。这场突如其来的技术封锁，将全球半导体产业链推向了地缘政治与产业竞争的漩涡中心。

中国光刻机被荷兰锁了吗

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发布时间：2025-11-06 09:47

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