光掩膜基板怎么生产

哈喽，大家好，欢迎来到 daniel 新制造。今天我们接着讲芯片制造中的巅峰之作光刻技术。我们还是把制造过程比作建造成世。 光刻就是城市建设的总化师。我们平时看到的华为、苹果这些设计公司，就是城市规划设计院，他们会画好哪里建高楼，哪里铺水管的图纸。当图纸被画好的时候，怎么把它在一点点大的硅片上造出来呢？这就需要光刻机出厂了， 它就像是建筑对手里的一双上帝之手。我们先在硅片这块地皮上涂上一层对光敏感的材料，叫光刻胶。然后光刻机就像一个超级精密的投影仪，光线透过印着图纸的眼模板，把城市的设计图投影到地皮上被光照到的地方。 光刻胶由于光敏，性质会发生改变。接着我们像洗相片一样对金元显影清洗后，就可以完成地基的收尾工作。接着就是刻蚀机负责挖坑，沉基，设备负责盖楼，这个过程还是要重复几十次甚至上百次。你可能会问， 不就是投影照相吗？投影仪也能干？其实难点在于极小和极稳。首先说小，现在的先进工艺是三纳米、五纳米，这什么概念？相当于你要把整个城市的街道、楼房，甚至下水道全部等比例缩小，画在一粒大米上。而光刻机的光类似画画的笔， 以前我们用的是身子外光 duv， 但这支笔的笔尖太粗了，想画七纳米以下的线条，就像让你拿着一把扫把去给蚂蚁绣眉毛。为了解决问题， 人类造出了 euv 级紫外光，把扫把换成了最细的绣花针。第二个我们再说稳。举个例子，阿斯麦的 euv 光刻机内部有几十万个零件，光线要在针空中经过十几个镜子的反射，我们一定要把光线对准。这个工艺难度就好比你站在月球上，用激光笔去照地球上的一只苍蝇， 还得时刻锁定它，手稍微抖一下，这座芯片城市就废了。所以光刻技术的价值和战略地位才会那么高。可是现在的 euv 光刻机已经这么牛了， 未来还能怎么发展？目前主流的技术路线主要有两个方向，第一个是阿斯麦的 high n e u v， 也就是高数值孔径 e u v， 就是 把那根绣花针磨得更细，把镜子做的更大更精密，让光线的聚光能力更强。 这是通往两纳米以纳米制成的必经之路，也是目前最主流的黄道乐土。第二个是佳能等公司的纳米压印技术。 neil， 这个更有意思， 他不玩投影了，改完盖章，直接把刻好电路图的章像盖公章一样压在金元上。它的优势是便宜，不用那些昂贵的光源和镜组，但缺点也很明显，就是容易有瑕疵，就像盖章容易盖歪或者有气泡。总结一下，光刻技术 就是人类在微观世界里进行的创世纪，他是物理学、光学、材料学和精密机械的极大成者。虽然现在最顶尖的工程师们正在日夜兼程 攻克这道难关，虽然路很长，但这座微观城市的建造券我们迟早会握在自己手里。更多半导体行业资讯，请关注 daniel 新制造。