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m o c v d 全名为金属有机化学气象沉积,又可叫做金属有机气象蔓延,是一种在精元上沉积超薄单精藏的技术。 m c v d。 是将金属有机化合物作为前躯体,在反应腔中,这些前躯体在高温下热分解,释放出金属元素,随后金属元素在衬底表面形成薄膜。 m o c b d。 不仅用于深化家、淡化家、碳化硅等半导体材料的沉积,还可以用于铜、铝等金属单制的沉积,甚至可以用于磷化物等非金属材料的沉积,在光电子和高功率电子器件中应用十分广泛。

cvd, 又名化学气象沉积,是芯片厂中制造金属戒指半导体薄膜的常用手段。 cvd 是将一种或数种反应气体在高温或等离子的条件下激活,在衬底表面发生化学反应, 沉积出所需固体薄膜,而多余的气态副产物被抽出。反应枪式。 cvd 的种类很多,根据反应条件的不同 又分为长压 cbd、 低压 cbd、 等离子体增强 cbd 高密度等离子体 cbd 金属有机化合物 cbd 和原子层沉积等。 cbd 生长的薄膜纯度更高,性能更好,是芯片制造必不可少的工具之一。

为了降低化学气象趁机的反应温度,人们探索出了一种新的方法,叫 m o c v d 法。 m o c v d 的英文名称是 natal organic catholic reput deposition。 mcvd 的气态物质源是金属有机化合物,也就是金属的碳氢化合物。比如三甲基家的分子式是 g a c h 三三甲肌铝的分子式是 a l c h 三 有机化合物沉积固态磨层的沉积温度降低到三百度到八百度。精准有机化合物所用的气态物质源多是无毒 没有污染的气体。由于无毒沉积温度低,所以它的适用范围比热 cvd 广泛的多。用 mocvd 可以制备光电子、微电子技术中应用的三五足半导体化合物。 比如可以用三甲肌夹在蓝宝石上外延生长出 led 灯中用的淡化佳音发光层。这是用 mocvd 技术沉积 led 灯淡化加发光层的装置照片。 左边这个照片是晨曦装置和他所用的记录。黄箭头指示的就是沉积史。粉红色箭头指示的 就是 mocd 装置所需要的配置的器路。中间这个照片和右边的照片都是沉积式内部的结构。 右边的两个图遇见头指示的大圆盘是弓箭转盘,这上面摆的小圆片就是衬底, 一般的衬底是两英寸的硅片或者是蓝宝石。红箭头指示的是步气盘。在这样一个装置里要打几千个小孔,实现均匀布气。 在沉积的时候,弓箭要进行高速旋转,要进行均匀的送气, 在一千度的高温下可以沉积出来。发蓝光的淡化加芯片在封装的时候是 发出来的蓝光照射在黄色的荧光粉上,就可以得到暖白光或者是冷白光的 led 灯。 m o c v d。 所用的气体虽然毒性比较低,但是呢他们是有机化合物,所以容易燃烧,容易爆炸, 所以在操作中也要进行很严格的控制。这个照片就是进行封闭操作 时候的使用的手套箱,可以通过手套箱操作,也可以利用机械手进行操作。 m c v d 装置整个的结构控制的是很严谨的。 这个照片的左边是白光 led 灯的照片,他的发光材料是淡化加,他是用 mocv 的技术在蓝宝石上 沉浸出来所需要的发白色光的 led 灯的单灯,然后组合成这样的一个马路上用的路灯的一个灯泡。这种用 mocvd 生产的白光的 led 灯,他比我们用的乌斯灯泡 节能百分之九十,比一般的日光灯节能百分之六十。所以 mocvd 现在在生产高新技术产品中的应用范围越来越宽阔。我们刚才介绍的 用 mocvd 技术获得淡化加发光层的技术,实际上是在一千度的高温下冲入三甲基家和氨气, 在硅片或者是蓝宝石上进行外延生长的过程。 所谓外延生长,就是选择一个晶体结构和我们要沉积的磨层的结构相同的材料叫衬底,也叫 纸巾,然后控制我们磨层粒子在这个晶体上要长出相同的结构的磨层,沉积速度要缓慢, 不能破坏原来的紫金或者是衬底的原子的排队规律,才能慢慢 外沿生长出我们所需要结构的磨层。左边这个图是在山画家幺幺幺镜面上外沿生长得到山画家的纳米线。 右边这个图是在连话音的幺零零面上外延生长出连话音的纳米线的照片。



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