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就算你有光刻剂,没有日本的光刻胶也是白搭。可能大家不知道,比光刻剂更要命的是光刻胶,哪怕没有最先进的 ev 光刻剂,使用 dv 光刻剂也行,再不济使用二手光刻剂都行。 但是没有光合胶的话就惨了,不管你什么光合剂都工作不了,而且光合胶的保质期就几个月,想靠囤货根本不行,最后都烂到家里了。更可怕的是,全球光合胶市场百分之九十以上的份额都被日本垄断,老美都得依赖他。那么如果日本对我们断供掐脖子,我们该怎么办? 光刻胶顾名思义就是种胶水,但这种胶水非常厉害,在芯片制造的过程中,往龟片上滴几滴,就会形成一层薄膜,然后特殊的光线会通过一个具有特定图案的眼膜往薄膜上照一照,照完后再进行一系列的时刻清洗工作, 之后,眼膜上的图案就会转移到光刻胶薄膜上面。这种薄膜图案在经过多次迭代,并连同其他多个物理化学过程,最终就会形成集成电路。那光刻胶在芯片制造中有多重要?这么说吧,就算是非常牛叉的 ev 光合剂,没有相应的光刻胶,最后精度也达不到要求。 三星集团 ceo 就曾表示,如果光刻机缺少了光刻胶,那么光刻机就是一堆废铁。而在光刻胶领域,百分之九十以上的份额都被日本垄断,老美都得依赖他。 十纳米支撑以下的光合胶基本上只有日期能够生产,其中东京硬化在 uv 光合胶市场的份额更是超过百分之五十。光合机被卡用过二手的光合机也行,但光合胶被卡就只能干瞪眼了。可能大家不知道,光合胶种类多达两百多种,每款芯片所需光合胶从几种到几十种不等, 而且保质期只有六个月,靠囤货根本不行。更重要的是,光刻胶生产商需要购买光刻机来进行相关配方测试,而光刻机不仅价格昂贵,而且国外还处处显瘦。 可能有人会说了,光刻胶只是个胶水而已,能有多难,难道我们造不出来吗?论复杂性,光刻胶肯定是比不上光刻机的,中国当然也能造,最主要的原因还是光刻胶市场太小了,也就占全球半导体市场规模的百分之一。 为了这百分之一举全国智力搞突破不划算。像中兴国企这么大的厂子,一年光客交的采购量也就四到五个亿。 在这,日本在光合交领域的专利积累优势巨大,专利申请量占全球光合交专利总申请量的百分之四十六,而中国只有百分之七。当然了,也不是说完全不懂,也有企业在做这个事情。比如二零二零年十二月底,南大光电 成功研发出我国自主开发的第一款一百九十三纳米的 aif 光刻胶,并通过客户验证。还有苏州瑞红、北京科华、容纳感光、上海信阳等,他们在半投的领域用量最大的开胶、 a 胶方面都取得了阶段性突破。 虽然目前 ev 光合胶领域国内暂时处于空白,连门都还没摸到,毕竟 ev 光合机我们还没有,但至少能满足大部分芯片需求。 假如日本要对我们断孔光刻胶呢?其实跟圆珠笔钢一个道理,之前日却们说笔尖钢有这么复杂,只有日本能造,结果呢,太钢的一炉钢水,一不小心就生产出够全世界用好几年的笔尖钢了。 所以如果日本真要断供,其结果可能导致目前靠光合胶赚钱的日本公司濒临倒闭,继而都被中国企业所替代。本来赚的也是辛苦钱,这下倒好,一毛钱都赚不到了,这不是搬起石头砸自己的脚吗?
