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雪钻6月前
近日,一家国内半导体设备厂商突然“出圈”,成为众人瞩目的焦点。 据悉,上海SEMICON China 2025半导体展期间,国产芯片设备公司“新凯来”(NewKailai)发布6大类31款新品,覆盖刻蚀产品、扩散产品、薄膜产品以及物理量测、X射线量测、光学量检测6大类。 “新凯来”全称是“深圳市新凯来技术有限公司”,成立于2021年8月,隶属于深圳市重大产业投资集团,是深圳国资委全资子公司。其设计理念为“一代工艺、一代材料、一代装备”,业务范围涵盖半导体装备及零部件研发和制造,半导体制造过程中所需的关键设备和零部件等。 国产半导体设备企业“新凯来”,正在利用多重图形曝光等技术提升芯片制造工艺,公布包括外延沉积EPI设备(峨眉山系列)、原子层沉积ALD设备(阿里山系列)、物理气相沉积PVD设备(普陀山系列)、刻蚀ETCH设备(武夷山系列)、薄膜沉积CVD设备(长白山系列)和量检测设备(包括岳麓山、丹霞山、蓬莱山、莫干山、天门山、沂蒙山、赤壁山、功率检测RATE系列)产品。 “光刻机”作为芯片制造的核心设备之一被誉为“半导体皇冠上的明珠”。近年来,随着5G、人工智能、物联网等新兴技术的快速发展,对芯片的需求呈现出爆炸式增长,且对芯片的性能要求越来越高。“新凯来”的崛起,标志着中国在光刻机领域实现了对ASML技术封锁的突破,并逐步重构全球半导体产业格局。 国产5nm光刻机的问世,直接冲击美国对华“卡脖子”战略。ASML被迫调整策略,紧急出口1980Di型号DUV设备,但中国半导体设备国产化率已从2013年的4.38%提升至2023年的17.57%,预计2025年光刻机市场规模突破300亿美元。 最让人震惊的是其中那台代号“峨眉山”的光刻机——它用的既不是ASML的极紫外光,也不是日本的ArF激光,而是一种连美国商务部都没想到的技术路径。 “新凯来”的故事告诉我们,技术突围从来不是“硬刚”。就像他们的工程师说的:“ASML是法拉利,我们先造五菱宏光——但别忘了,中国每年卖2800万辆五菱宏光,法拉利才卖1万辆。” “新凯来”的突破不仅是一次技术逆袭,更是中国系统性创新能力的集中体现。尽管仍面临技术缺口与国际竞争压力,但新凯来的实践证明:在高端科技领域,封锁反而可能成为加速自主创新的催化剂。未来,全球半导体版图的“中国板块”或将持续扩张,重塑技术霸权与产业分工的逻辑。
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