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雪钻6月前
近日,一家国内半导体设备厂商突然“出圈”,成为众人瞩目的焦点。 据悉,上海SEMICON China 2025半导体展期间,国产芯片设备公司“新凯来”(NewKailai)发布6大类31款新品,覆盖刻蚀产品、扩散产品、薄膜产品以及物理量测、X射线量测、光学量检测6大类。 “新凯来”全称是“深圳市新凯来技术有限公司”,成立于2021年8月,隶属于深圳市重大产业投资集团,是深圳国资委全资子公司。其设计理念为“一代工艺、一代材料、一代装备”,业务范围涵盖半导体装备及零部件研发和制造,半导体制造过程中所需的关键设备和零部件等。 国产半导体设备企业“新凯来”,正在利用多重图形曝光等技术提升芯片制造工艺,公布包括外延沉积EPI设备(峨眉山系列)、原子层沉积ALD设备(阿里山系列)、物理气相沉积PVD设备(普陀山系列)、刻蚀ETCH设备(武夷山系列)、薄膜沉积CVD设备(长白山系列)和量检测设备(包括岳麓山、丹霞山、蓬莱山、莫干山、天门山、沂蒙山、赤壁山、功率检测RATE系列)产品。 “光刻机”作为芯片制造的核心设备之一被誉为“半导体皇冠上的明珠”。近年来,随着5G、人工智能、物联网等新兴技术的快速发展,对芯片的需求呈现出爆炸式增长,且对芯片的性能要求越来越高。“新凯来”的崛起,标志着中国在光刻机领域实现了对ASML技术封锁的突破,并逐步重构全球半导体产业格局。 国产5nm光刻机的问世,直接冲击美国对华“卡脖子”战略。ASML被迫调整策略,紧急出口1980Di型号DUV设备,但中国半导体设备国产化率已从2013年的4.38%提升至2023年的17.57%,预计2025年光刻机市场规模突破300亿美元。 最让人震惊的是其中那台代号“峨眉山”的光刻机——它用的既不是ASML的极紫外光,也不是日本的ArF激光,而是一种连美国商务部都没想到的技术路径。 “新凯来”的故事告诉我们,技术突围从来不是“硬刚”。就像他们的工程师说的:“ASML是法拉利,我们先造五菱宏光——但别忘了,中国每年卖2800万辆五菱宏光,法拉利才卖1万辆。” “新凯来”的突破不仅是一次技术逆袭,更是中国系统性创新能力的集中体现。尽管仍面临技术缺口与国际竞争压力,但新凯来的实践证明:在高端科技领域,封锁反而可能成为加速自主创新的催化剂。未来,全球半导体版图的“中国板块”或将持续扩张,重塑技术霸权与产业分工的逻辑。
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一文看懂半导体设备新贵,一文梳理新凯来核心概念股! 一文看懂半导体设备新贵新凯来公司,一文梳理新凯来核心概念股! 本文重点介绍的就是新凯来,以及与新凯来公司关联度较高的A股上市公司梳理,包括:股权(新凯来对外投资、其他企业持股新凯来、同一大股东)、与新凯来业务往来关联度及合作细节、关键零部件供应等方面的上市公司名单。 核心技术团队具备20年以上电子设备技术开发经验,技术根基源自于xx2012实验室下属的“星光工程部”。 核心产品为覆盖刻蚀、薄膜沉积、量检测等核心环节的半导体设备。企业定位于半导体装备及零部件、电子制造设备的研发、制造、销售与服务。 2021年8月,深圳国资委通过深圳市重大产业投资集团(深重投)认购100%控股成立深圳市新凯来技术有限公司。自此,xx的知识产权与深重投的资本融合,开启中国半导体装备及零部件、电子制造设备领域的国产替代、自主可控之路。 早在2025年3月的SEMICON China展会上,新凯来首次公开亮相便推出了6大类共31款以中国名山命名的半导体设备。值得关注的是,这些设备全都不是试验样品,而是可实现量产的半导体设备,涵盖刻蚀(ETCH)、薄膜沉积(CVD/ALD/PVD)、量检测等关键领域。新凯来在半导体领域实现全链条设备覆盖。 此外,面对高端光刻机的技术封锁,新凯来选择了一条务实且独特的技术路径—以深紫外(DUV)光刻+自对准四重成像(SAQP)工艺为核心,目标是绕开极紫外(EUV)限制,实现7nm/5nm先进制程芯片的自主制造。 ----- 新凯来核心概念股 1、新莱应材:是国内唯一实现高端真空系统国产化的企业,为刻蚀、薄膜沉积设备供应超高纯净度管路系统(纯度达99.999%)、真空阀门,超高洁净管路系统纯度达ppt级,成本较海外低30%,产品适配7nm/5nm制程需求。2025年新增数亿级订单覆盖先进制程液冷组件。新莱产品洁净度达国际顶尖标准,覆盖先进制程及液冷组件。 2、至纯科技:新凯来湿法清洗设备独家供应商,与新凯来联合开发工艺,推动国产设备在长江存储等晶圆厂的验证。28nm设备已量产,14nm以下设备进入中芯国际验证。独创硫酸回收技术,单台年省成本160万美元。 奥普光电:通过合资公司长光集智供应光刻机曝光系统核心部件,技术适配DUV及EUV光源,深紫外物镜分辨率达22nm,为A股唯一明确涉及5nm光刻机供应链的公司。 #新凯来概念股 #至纯科技 #新莱应材 #奥普光电
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