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光刻胶国产替代迎大突破:从卡脖子到追平国际,就差一步! 造芯片绕不开光刻机,可很少有人知道,光刻机离了光刻胶就是 “废铁”!最近北大团队刚攻克 5 纳米光刻胶技术,武汉企业也搞定了原料配方,今天就用大白话讲透:这玩意儿到底是啥?咱们中国企业追上了吗? 一、光刻胶:芯片的 “超级感光底片”,精度决定芯片好坏 简单说,光刻胶就是芯片制造的 “感光底片”,但比相机底片精密一万倍!它由感光树脂、增感剂和溶剂调成,关键作用就两步: 第一步 “拍照留图”:光刻机发射极紫外光,透过设计好电路图案的掩模版,像拍照片一样 “印” 在涂了光刻胶的硅片上,被光照的部分会发生化学变化。 第二步 “雕刻成型”:用显影液冲洗后,变化的光刻胶被溶解,留下的部分就成了 “保护罩”,后续刻蚀机照着这个图案雕出纳米级的电路。没有光刻胶,再牛的光刻机也刻不出 1 颗芯片,它直接决定芯片的精度和良品率。 打个比方:造芯片像雕玉,光刻胶就是 “描线的底稿”,底稿越精细,雕出来的玉(芯片)才越高级。5 纳米光刻胶,就相当于能在头发丝上描出几百条细线! 二、国产替代迎大突破:从 “卡脖子” 到追平国际,就差最后一步 以前全球光刻胶被日本信越、东京应化等 4 家企业垄断,占了 80% 以上份额,高端的 5 纳米光刻胶更是对咱们限制出口。但 2024 年开始,咱们接连破局: 原料配方突破:武汉太紫微光电率先搞定光刻胶核心原料和配方,不用再进口 “基础料”; 技术精度突破:北大彭海琳团队用冷冻电子断层扫描技术,做出分辨率优于 5 纳米的光刻胶,达到国际顶尖水平; 量产能力跟进:部分企业已经实现 28 纳米光刻胶稳定供货,正在向 14 纳米、5 纳米冲刺。 现在的差距主要在 “高端量产经验”,国际巨头做 5 纳米光刻胶十几年,咱们刚突破实验室技术,要实现大规模稳定供货还得 1-2 年,但这已经是跨越式进步了! #彤程新材 :国内唯一拥有光刻胶全产业链布局的企业,收购日本旭化成光刻胶业务,28 纳米光刻胶量产供货,市占率国内第一。 #南大光电 :193nm 光刻胶(高端型号)通过中芯国际验证,打破国外垄断,是国内高端光刻胶领军者。 #晶瑞电材 :苏州纳米城基地年产 2 万吨光刻胶,i 线光刻胶市占率国内领先,14 纳米光刻胶处于研发收尾阶段。 #容大感光 :PCB 光刻胶国内市占率前三。 #华海清科 :国内唯一能提供光刻胶剥离设备的企业。
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