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管仲说1周前
半导体股票背后的“芯”知识 说到半导体,那英伟达就绕不开了。 您就看三个月前,也就是今年7月31号之前,这市场上对英伟达是啥态度?那是“极度渴望”啊!渴望什么?渴望“进口”它那芯片。 但7月31号发生了什么呢?咱们国家宣布约谈英伟达。核心议题,就是它那个专供咱们的H20芯片,可能存在“漏洞后门”的安全风险! 哎,这一下很多人就懵了:咱不是天天求着人家买吗?怎么现在反过来说人家有风险了?这到底是怎么回事? 您想啊,全世界最牛的AI芯片厂商,确实是英伟达。但问题是,老美制裁咱们这么多年,把好芯片捂在怀里跟个宝贝似的,要么不卖,要么就给我们搞一个“性能降级”的特供版。 最骚的操作是,他们还想在这些“特供”芯片里,强制加入什么“地理位置验证”、“远程关闭”这些后门功能! 这不就是方便他老美随时追踪、甚至关键时刻给咱“拉闸”吗? 这下,咱们的态度也彻底变了! 从过去“被制裁时的渴望进口”,到后来“想办法进口降级版 ”,再到如今的“警惕后门”! 这等于直接公开提醒各大厂商:都小心点用!这家伙(H20)可能有后门! 您看,这就叫“杀人诛心”! 真验证了那句话:“当初的我你爱答不理,现在的我你高攀不起,我不要了!” 结果呢?你看那英伟达的老黄近期自己都表示,他在中国先进芯片的市场份额,已经从过去的95%跌至了“零”。 嚯!这一下,攻守易形了啊! 反正咱这心态,主打一个字——爽!#科普 #半导体 #股票知识 #赚钱 #思维
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重磅发布!国产芯片上新 6月26日,龙芯中科宣布推出基于自主指令集“龙架构”研发的三款处理器芯片及配套解决方案,标志着我国在自主CPU领域实现全场景覆盖。 此次发布的龙芯3C6000系列服务器芯片采用16核32线程设计,支持自主研发的龙链技术实现多硅片扩展,综合性能达到英特尔2023年主流服务器水平。该系列已通过国家《安全可靠测评公告》最高等级二级认证,部分客户已将其应用于核心业务系统。配套的高性能服务器解决方案可满足通用计算、人工智能、工业控制等多领域需求。 面向终端与工控领域的龙芯2K3000/3B6000M芯片同步亮相,采用12nm工艺,集成图形处理与AI加速模块,填补了国产工控芯片在移动场景的空白。至此,龙芯形成覆盖桌面、服务器、终端的完整产品线,为行业提供全栈式自主解决方案。 龙芯中科董事长胡伟武强调,公司通过20年技术积累,已掌握CPU、GPU、AI处理器及基础软件的核心技术,构建起从芯片设计、生产到软件生态的完全自主体系。他指出:“新一代产品将实现性能跨越,彻底摆脱对国外技术的依赖。” 目前,龙芯芯片已实现100%自主IP核设计、国产工艺线生产及自主指令集软件适配。随着下一代高性能芯片研发推进,龙芯正加速推动国产信息技术体系从“可用”向“好用”升级,为关键领域数字化转型提供安全底座。#真空回流炉 #芯片封装 #半导体设备 #半导体 #真空回流焊
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光刻胶国产替代迎大突破:从卡脖子到追平国际,就差一步! 造芯片绕不开光刻机,可很少有人知道,光刻机离了光刻胶就是 “废铁”!最近北大团队刚攻克 5 纳米光刻胶技术,武汉企业也搞定了原料配方,今天就用大白话讲透:这玩意儿到底是啥?咱们中国企业追上了吗? 一、光刻胶:芯片的 “超级感光底片”,精度决定芯片好坏 简单说,光刻胶就是芯片制造的 “感光底片”,但比相机底片精密一万倍!它由感光树脂、增感剂和溶剂调成,关键作用就两步: 第一步 “拍照留图”:光刻机发射极紫外光,透过设计好电路图案的掩模版,像拍照片一样 “印” 在涂了光刻胶的硅片上,被光照的部分会发生化学变化。 第二步 “雕刻成型”:用显影液冲洗后,变化的光刻胶被溶解,留下的部分就成了 “保护罩”,后续刻蚀机照着这个图案雕出纳米级的电路。没有光刻胶,再牛的光刻机也刻不出 1 颗芯片,它直接决定芯片的精度和良品率。 打个比方:造芯片像雕玉,光刻胶就是 “描线的底稿”,底稿越精细,雕出来的玉(芯片)才越高级。5 纳米光刻胶,就相当于能在头发丝上描出几百条细线! 二、国产替代迎大突破:从 “卡脖子” 到追平国际,就差最后一步 以前全球光刻胶被日本信越、东京应化等 4 家企业垄断,占了 80% 以上份额,高端的 5 纳米光刻胶更是对咱们限制出口。但 2024 年开始,咱们接连破局: 原料配方突破:武汉太紫微光电率先搞定光刻胶核心原料和配方,不用再进口 “基础料”; 技术精度突破:北大彭海琳团队用冷冻电子断层扫描技术,做出分辨率优于 5 纳米的光刻胶,达到国际顶尖水平; 量产能力跟进:部分企业已经实现 28 纳米光刻胶稳定供货,正在向 14 纳米、5 纳米冲刺。 现在的差距主要在 “高端量产经验”,国际巨头做 5 纳米光刻胶十几年,咱们刚突破实验室技术,要实现大规模稳定供货还得 1-2 年,但这已经是跨越式进步了! #彤程新材 :国内唯一拥有光刻胶全产业链布局的企业,收购日本旭化成光刻胶业务,28 纳米光刻胶量产供货,市占率国内第一。 #南大光电 :193nm 光刻胶(高端型号)通过中芯国际验证,打破国外垄断,是国内高端光刻胶领军者。 #晶瑞电材 :苏州纳米城基地年产 2 万吨光刻胶,i 线光刻胶市占率国内领先,14 纳米光刻胶处于研发收尾阶段。 #容大感光 :PCB 光刻胶国内市占率前三。 #华海清科 :国内唯一能提供光刻胶剥离设备的企业。
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