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光刻胶国产替代迎大突破:从卡脖子到追平国际,就差一步! 造芯片绕不开光刻机,可很少有人知道,光刻机离了光刻胶就是 “废铁”!最近北大团队刚攻克 5 纳米光刻胶技术,武汉企业也搞定了原料配方,今天就用大白话讲透:这玩意儿到底是啥?咱们中国企业追上了吗? 一、光刻胶:芯片的 “超级感光底片”,精度决定芯片好坏 简单说,光刻胶就是芯片制造的 “感光底片”,但比相机底片精密一万倍!它由感光树脂、增感剂和溶剂调成,关键作用就两步: 第一步 “拍照留图”:光刻机发射极紫外光,透过设计好电路图案的掩模版,像拍照片一样 “印” 在涂了光刻胶的硅片上,被光照的部分会发生化学变化。 第二步 “雕刻成型”:用显影液冲洗后,变化的光刻胶被溶解,留下的部分就成了 “保护罩”,后续刻蚀机照着这个图案雕出纳米级的电路。没有光刻胶,再牛的光刻机也刻不出 1 颗芯片,它直接决定芯片的精度和良品率。 打个比方:造芯片像雕玉,光刻胶就是 “描线的底稿”,底稿越精细,雕出来的玉(芯片)才越高级。5 纳米光刻胶,就相当于能在头发丝上描出几百条细线! 二、国产替代迎大突破:从 “卡脖子” 到追平国际,就差最后一步 以前全球光刻胶被日本信越、东京应化等 4 家企业垄断,占了 80% 以上份额,高端的 5 纳米光刻胶更是对咱们限制出口。但 2024 年开始,咱们接连破局: 原料配方突破:武汉太紫微光电率先搞定光刻胶核心原料和配方,不用再进口 “基础料”; 技术精度突破:北大彭海琳团队用冷冻电子断层扫描技术,做出分辨率优于 5 纳米的光刻胶,达到国际顶尖水平; 量产能力跟进:部分企业已经实现 28 纳米光刻胶稳定供货,正在向 14 纳米、5 纳米冲刺。 现在的差距主要在 “高端量产经验”,国际巨头做 5 纳米光刻胶十几年,咱们刚突破实验室技术,要实现大规模稳定供货还得 1-2 年,但这已经是跨越式进步了! #彤程新材 :国内唯一拥有光刻胶全产业链布局的企业,收购日本旭化成光刻胶业务,28 纳米光刻胶量产供货,市占率国内第一。 #南大光电 :193nm 光刻胶(高端型号)通过中芯国际验证,打破国外垄断,是国内高端光刻胶领军者。 #晶瑞电材 :苏州纳米城基地年产 2 万吨光刻胶,i 线光刻胶市占率国内领先,14 纳米光刻胶处于研发收尾阶段。 #容大感光 :PCB 光刻胶国内市占率前三。 #华海清科 :国内唯一能提供光刻胶剥离设备的企业。
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危机!我国光刻胶90%依赖日本,哪些国产企业能够破局? 先看一组触目惊心的数据:信越化学、JSR 这两家日本企业垄断了全球 50% 以上的光刻胶市场,高端 EUV 光刻胶更是被日本企业掌控 95% 以上份额。而中国光刻胶整体进口对日本依赖度高达 80%-90%,2023 年它们就用 “供应链不稳” 停供。 2025 年 10 月,日本正式对 19 类半导体关键材料加征最高 25% 惩罚性关税。在此背景下,11 月信越对华出口量环比暴跌 42%。这一数据来自行业供应链跟踪统计,反映出日企在关税加码后实质收缩对华业务,并非单纯市场波动,更狠的是光刻机维修。 我国现在有 1200 多台 DUV 光刻机,90% 依赖佳能尼康的售后。结合日本近年对华半导体领域限制升级趋势,佳能、尼康在 2025 年 11 月进一步收紧服务,这与日本通过逐案审批卡住备件出口的政策形成联动。业内测算存量光刻机备件库存仅能维持 3-6 个月左右,若持续断供,中芯国际、华虹半导体等晶圆厂的正常生产将面临显著压力。 问题来了,国产替代扛得住吗?绝境下的国产替代会跑出 “加速度” 吗?国内哪些光刻胶企业已经或正在努力破局? 南大光电、彤程新材、上海新阳、精锐电子、恒坤新材、华懋科技、容大感光、雅克科技、芯源微。 其中,部分企业的光刻胶树脂覆盖 KrF、ArF 等级,并通过了三星、SK 海力士等国际巨头的认证。 芯源微专注于涂胶显影设备,打破了东京电子的垄断。还有江化微、福晶科技、强力新材。
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