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无蜡吸附垫替代进口 我们专业生产适用于CMP(化学机械抛光)工艺的无蜡吸附垫(亦常被称为:真空吸附垫/硅片吸附垫/芯片吸附垫/抛光吸盘Template/抛光模板/背附板)。产品专为半导体硅晶圆、碳化硅衬底、蓝宝石衬底、光学玻璃、精密陶瓷、外延片、金属等硬脆材料的单面高精度抛光而设计,是实现平坦化关键步骤的核心装置与耗材。 产品核心优势: 卓越的产品定制能力: 尺寸灵活: 支持从 Φ25mm 到 Φ800mm 的广泛尺寸定制,覆盖绝大多数应用场景。 深度精准: 吸附层深度可在 0.15mm 至 8.0mm 范围内精密定制,以满足不同材料、不同工艺阶段的特定吸附与抛光压力需求。 关键材料双轨配置: 核心的黑色吸附层材料,我们同时提供优质进口材料与高性能国产材料选项。这不仅确保了产品性能可对标国际标准,更能满足不同客户对供应链弹性、成本控制及国产化替代的战略需求,为您提供灵活选择。 强劲的竞争优势: 极具竞争力的价格: 通过优化的设计、本土化生产及灵活的物料策略,我们在保证品质的前提下,为您提供显著的成本优势,直接降低您的单次抛光耗材成本。 稳定即时的供货保障: 依托高效的供应链管理与充足的产能预备,我们承诺快速响应订单,确保供货及时稳定,最大程度减少您的设备待机时间,保障生产连续性。 总结承诺: 选择上海创航无蜡吸附垫,意味着您选择了一种高性价比、供货可靠、且高度可定制化的抛光工艺解决方案。我们不仅是产品供应商,更是您提升抛光良率、控制综合成本、优化供应链的合作伙伴。 欢迎垂询定制,让我们以卓越的产品,助您工艺精益求精。#我们专业生产#蓝宝石加工 #研磨加工 #陶瓷加工 #硅片加工 半导体#
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