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对标佳能!中国首台半导体级步进纳米压印光刻系统交付 璞璘科技今日宣布,自主设计研发的首台 PL-SR 系列喷墨步进式纳米压印设备通过验收并交付国内特色工艺客户。该设备攻克了步进硬板非真空完全贴合、喷胶与薄胶压印等关键技术难题,可对应线宽<10nm 的纳米压印光刻工艺,还配备自主研发的多套系统,已初步完成多种芯片研发验证。 此前,佳能推出的 FPA-1200NZ2C 系统号称最先进,可实现最小 14nm 线宽图案化,支持 5nm 制程逻辑半导体生产,目标是三到五年内年销 10 到 20 台。 璞璘科技的 PL-SR 系列成果丰硕。在喷墨涂胶工艺上,实现重大突破,精准控制局部胶量,成功达成纳米级压印膜厚等多项技术指标,还开发出可溶剂清洗的光固化纳米压印胶,保障材料可靠。同时,突破纳米压印模板面型控制难点,解决石英模板与硅晶圆贴合难题。此外,针对刻蚀工艺要求,优化设备、材料和工艺系统,实现无残余层压印。 不过,高端半导体制造领域对准精度要求极高,突破 10nm 甚至向 1nm 逼近难度大、成本高。璞璘科技秉持开放创新理念,期待与国内科研院所和企业合作,联合攻关,打造具有国际竞争力的高端设备,助力我国在下一代芯片制造装备领域实现自主可控。#真空回流炉 #芯片封装 #纳米压印 #光刻机 #半导体设备
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