中微公司董事长尹志尧:希望五到十年,覆盖超60%半导体设备 5月27日,半导体设备龙头中微公司在上海临港召开业绩说明会及媒体见面会。会上,公司薄膜沉积设备业务备受关注。 一直以来,中微公司以等离子体刻蚀机为代表业务,薄膜设备则以MOCVD为主。不过,公司正积极拓展薄膜设备领域。2024年,其LPCVD设备实现首台销售,全年设备销售额约1.56亿元。在LPCVD研发上,中微不抄袭外国设备,而是分析国际大厂产品优缺点,开发出差异化、有自主知识产权的竞争设备。目前,中微已有多款新型LPCVD和ALD薄膜设备进入市场并获重要客户重复性订单,LPCVD累计出货量突破150个反应台,EPI设备进入客户端量产验证阶段。 在刻蚀机方面,中微公司ICP设备近年来高速增长,2023年新增订单同比增长139.3%,2024年同比增长89.5%。同时,公司新产品开发周期缩短,从过去的3到5年缩短至约18个月,进入市场半年到一年即可量产。 对于研发投入,过去20年刻蚀占研发比例长期保持70%左右,如今越来越多资金投入到薄膜设备研发。中微公司董事长尹志尧表示,未来三到五年内,薄膜设备收入将快速增长。他还透露,公司已做好五到十年的布局,将扩大覆盖面,涵盖刻蚀、薄膜、量检测设备及部分湿法设备,目标是覆盖60%以上的半导体高端设备,成为平台式集团公司。#真空回流炉 #中微公司 #尹志尧 #半导体设备 #真空回流焊
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