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芯片被封杀下的逆境成长:中国28纳米以上半导体开始自给自足? #科技 #芯片 #半导体 #光刻机 #中国制造 很多人一提到中国芯片,就会联想到“被卡脖子”“做不出来”。但真实情况其实更像是一部正在加速的工程大片——尤其是在常规芯片领域,中国不仅没有停下,反而在稳步推进。 先说一个关键角色:上海微电子装备集团。他们推出的SSA800系列DUV光刻机,已经进入一个非常重要的阶段——28纳米工艺能力逐步成熟,并具备交付能力。 那28纳米是什么水平?简单讲,它已经覆盖了绝大多数“日常芯片”:比如汽车芯片、家电控制芯片、工业控制、通信设备等等。换句话说,你生活中用到的绝大部分电子产品,其实并不需要更先进的制程。 这台光刻机的核心,是193纳米波长的深紫外光(DUV)。听起来很抽象?你可以把它理解成一台“超级精密投影仪”——它把电路图,通过光线一层层“印”在硅片上。而为了让图案更精细,工程师在镜头和晶圆之间加入了一层超纯水,这种技术叫“浸没式光刻”,可以大幅提升分辨率。 它的关键参数也很硬核:数值孔径达到1.35,已经接近DUV的物理极限;单次曝光分辨率在40纳米左右,通过多次曝光工艺,可以稳定实现28纳米;同时具备双工件台系统,产能大约每小时200片晶圆。翻译成人话就是:不仅能做,而且能稳定、批量地做。 很多人误以为芯片只有“越小越先进才有用”,但现实是:28纳米及以上的成熟制程,占据了全球芯片市场的大头。能把这一段做好,其实就已经解决了大部分产业需求。 当然,中国在最尖端的EUV光刻机上还有差距,但这并不意味着“被封锁就什么都做不了”。恰恰相反,在DUV领域,像上海微电子这样的企业,正在一步步把关键设备补齐。 所以,与其说“卡脖子”,不如说是在爬一座很高的山。现在我们已经走过了最陡的一段坡,脚步也越来越稳。 未来的芯片竞争,不只是拼最尖端,更是拼完整产业链。而这场比赛,中国,已经在路上了。
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