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#每天跟我涨知识 新凯莱概念股是指与新凯莱有业务往来或合作关系,从而可能受益于新凯莱发展的上市公司股票。以下是新凯莱十大概念股的相关介绍: 1. 新莱应材:为新凯莱提供刻蚀、薄膜沉积设备所需的超高洁净管路系统,2024年订单8000万元,2025年获数亿级订单,其产品洁净度达PPT级,成本较海外低30%,国产替代率超70%。 2. 至纯科技:新凯莱湿法清洗设备独家供应商,2024年相关订单超6亿元,28nm设备已量产,14nm以下进入中芯国际验证,子公司至微科技获先进制程订单。 3. 奥普光电:实控人长春光机所与新凯莱合资成立长光集智,供应光刻机曝光系统核心部件,深紫外物镜分辨率达22nm,适配新凯来原型机,2026年计划量产EUV光学模组。 4. 美利信:通过子公司供应新凯莱刻蚀设备腔体,占单机成本15%,2025年半导体业务营收预计翻倍,订单供不应求。 5. 江丰电子:新凯莱PVD设备主靶材供应商,覆盖铝、钛、钽靶材,适配14nm及以上制程,2025年订单超2亿元,是国内唯一实现5nm靶材量产的企业。 6. 利和兴:为新凯莱提供精密结构件、自动化测试夹具,2024年来自新凯莱的订单约7-8亿元,覆盖刻蚀、薄膜沉积设备全流程。 7. 冠石科技:量产半导体级石英掩膜版,40-55nm产品适配新凯莱SAOP工艺,28nm产品进入验证阶段,2024年产能利用率达90%。 8. 路维光电:自2024年起向新凯莱交付40-55nm光掩膜版,28nm产品进入产线验证,2025年产能提升至10万片/年。 9. 正帆科技:向新凯莱供应气体输送模组(GasBox),应用于刻蚀、薄膜沉积设备,2024年半导体业务收入占比51%,GasBox纯度达99.9999%。 10. 国林科技:供应半导体级臭氧设备,用于新凯莱ALD/CVD工艺清洗,2025年半导体业务营收占比超40%,臭氧浓度控制精度达±1ppm。
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热搜前三、黄仁勋表态!光刻机概念集体爆发 光刻机板块1月7日表现强势,芯源微20CM涨停;鼎龙股份大涨超10%;珂玛科技、华特气体、腾景科技、新莱应材等也明显上涨。 综合市场观点来看,光刻机的走强,在于AI的爆发带来算力需求的激增,从而导致存储芯片等产品的需求激增,进而带动半导体设备需求的激增。 以存储芯片为例,1月7日当天就有多个“爆炸性”消息。一是“1盒内存条堪比上海1套房”登上了微博热搜前三;二是黄仁勋在CES2026上表示,英伟达是世界上购买存储芯片最大的公司之一。 在供应趋紧,需求激增下,存储芯片进入了显著的涨价周期。国金证券表示,2025年DDR4 16Gb涨幅高达1800%,DDR5 16Gb涨幅高达500%,512Gb NAND闪存涨幅高达300%。另据财联社援引报道,三星与SK海力士近期已向服务器、PC及智能手机用DRAM客户提出涨价,2026年一季度报价将较2025年第四季度上涨60%-70%。 在这样的背景下,市场对于半导体设备的需求增长也有乐观预期。国际半导体产业协会(SEMI)最新数据显示,2025年全球原始设备制造商(OEM)的半导体制造设备总销售额预计达1330亿美元,同比增长13.7%,创历史新高。预计未来两年将继续增长,2026年和2027年分别达到1450亿美元和1560亿美元。 而光刻机是半导体设备中最复杂,价值量最高的一环。山西证券根据《半导体制造光刻机发展分析》统计,芯片生产产线建设中,光刻机购置成本最高,达到设备总投资的21%-23%,光刻工艺耗时占生产环节的一半,制造成本占到芯片制造成本的30%以上,光刻机成为半导体制造的核心设备。 有券商研报表示,从技术迭代来看,光刻机经历了UV(g-Line、i-Line)、DUV(KrF、ArF、ArFi)、EUV的历程。其中1990年代,深紫外(DUV)光源的应用,使工艺节点将至百纳米以下。2013年,极紫外(EUV)光源实现产业化,成为7nm及以下先进制程的关键方案。 从全球格局来看,国金证券表示,ASML(阿斯麦)凭借其在高端光刻机领域的技术优势,仍占据了全球光刻机市场大部分的份额,特别是在EUV光刻机领域,ASML是全球唯一的供应商。 #光刻机 #asml #芯片 #财经
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