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华为与新凯来:技术传承与产业新篇 新凯来与华为之间有着千丝万缕的联系。新凯来前身为华为旗下半导体设备子公司 ,2021-2022年,因国际供应链压力,华为被迫收缩战线,将其剥离,最终由深圳国资委接手,并重组为国有企业。 新凯来的核心团队来自华为,有着20年以上电子设备技术开发经验,传承了华为重视研发与创新的基因。自成立以来,新凯来聚焦半导体设备研发与国产替代,基于一代工艺、一代材料、一代装备的设计理念,开发出刻蚀、扩散、薄膜、物理量测、X射线量测、光学量检测等6大类工艺和量检测装备。在2025年的SEMICON CHINA展会上,新凯来大放异彩,展出数十款自主研发的半导体设备,覆盖半导体制造全流程,其刻蚀及薄膜产品备受关注。 华为作为全球领先的ICT基础设施和智能终端提供商,在通信领域成就斐然,却因外部制裁,在半导体领域面临困境。新凯来的独立发展,肩负起攻克半导体高端设备技术难题的重任,是华为在半导体领域布局的延伸。 如今,新凯来凭借深圳国资委的资金支持与政策倾斜,与中芯国际、长江存储等头部晶圆厂紧密合作。这不仅推动新凯来迅速崛起,成为国产半导体设备的“黑马”,也有望助力华为解决部分半导体供应链问题,突破外部封锁。未来,新凯来有望凭借自身技术实力,在半导体设备领域持续创新,扩大市场份额;华为也能借助产业上下游协同,强化自身在通信、芯片等领域的竞争力 ,双方相互影响,共同为中国半导体产业发展添砖加瓦 。
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光刻胶+橡胶助剂双龙头,彤程新材 业务上:特种橡胶助剂方面,公司市占率能打,近三年来业绩稳定、小幅增长,总体上属于比较保守的发育状态,想要有多大突破很难,但是也不太会有太大下坡。 半导体光刻胶方面,产品从低端到高端分别涵盖 G 线光刻胶、I 线光刻胶、KrF 光刻胶和 ArF 光刻胶,其中,G 线光刻胶市场份额最大,I 线光刻胶接近国内先进水平,ArF光刻胶2024开始接单量产,KrF光刻胶作为公司研发重点,也已经形成量产。 显示面板光刻胶方面,依托子公司北旭电子,2024 年上半年,国内市占率约为 25.9%,是国内本土第一大供应商。在国内第一大面板厂京东方的占有率超50%。 当然,在日美光刻胶企业面前,可能彤程新材并不算什么。但是我国在该领域本就起步较晚,所以也就意味着国产替代的空间很大,而彤程新材在半导体光刻胶领域除了EVU光刻胶,基本实现了全覆盖。除此公司布局了EBR,以及新投资了半导体芯片CMP抛光垫项目,也有望进一步拓宽公司的增长空间。 财务上,2024年前三季度,营收、利润双增长,现金流能力增强,毛利率小幅提升,分红慷慨。总体来说,只要老业务保持稳定,新业务持续发力,公司的未来还是可期的。所以,单纯从基本面来看,公司还是值得被跟踪的。但如果要说价格大幅波动,那就需要等风来。#财经 #光刻胶 #彤程新材 #股票 #橡胶助剂
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一文看懂半导体设备新贵,一文梳理新凯来核心概念股! 一文看懂半导体设备新贵新凯来公司,一文梳理新凯来核心概念股! 本文重点介绍的就是新凯来,以及与新凯来公司关联度较高的A股上市公司梳理,包括:股权(新凯来对外投资、其他企业持股新凯来、同一大股东)、与新凯来业务往来关联度及合作细节、关键零部件供应等方面的上市公司名单。 核心技术团队具备20年以上电子设备技术开发经验,技术根基源自于xx2012实验室下属的“星光工程部”。 核心产品为覆盖刻蚀、薄膜沉积、量检测等核心环节的半导体设备。企业定位于半导体装备及零部件、电子制造设备的研发、制造、销售与服务。 2021年8月,深圳国资委通过深圳市重大产业投资集团(深重投)认购100%控股成立深圳市新凯来技术有限公司。自此,xx的知识产权与深重投的资本融合,开启中国半导体装备及零部件、电子制造设备领域的国产替代、自主可控之路。 早在2025年3月的SEMICON China展会上,新凯来首次公开亮相便推出了6大类共31款以中国名山命名的半导体设备。值得关注的是,这些设备全都不是试验样品,而是可实现量产的半导体设备,涵盖刻蚀(ETCH)、薄膜沉积(CVD/ALD/PVD)、量检测等关键领域。新凯来在半导体领域实现全链条设备覆盖。 此外,面对高端光刻机的技术封锁,新凯来选择了一条务实且独特的技术路径—以深紫外(DUV)光刻+自对准四重成像(SAQP)工艺为核心,目标是绕开极紫外(EUV)限制,实现7nm/5nm先进制程芯片的自主制造。 ----- 新凯来核心概念股 1、新莱应材:是国内唯一实现高端真空系统国产化的企业,为刻蚀、薄膜沉积设备供应超高纯净度管路系统(纯度达99.999%)、真空阀门,超高洁净管路系统纯度达ppt级,成本较海外低30%,产品适配7nm/5nm制程需求。2025年新增数亿级订单覆盖先进制程液冷组件。新莱产品洁净度达国际顶尖标准,覆盖先进制程及液冷组件。 2、至纯科技:新凯来湿法清洗设备独家供应商,与新凯来联合开发工艺,推动国产设备在长江存储等晶圆厂的验证。28nm设备已量产,14nm以下设备进入中芯国际验证。独创硫酸回收技术,单台年省成本160万美元。 奥普光电:通过合资公司长光集智供应光刻机曝光系统核心部件,技术适配DUV及EUV光源,深紫外物镜分辨率达22nm,为A股唯一明确涉及5nm光刻机供应链的公司。 #新凯来概念股 #至纯科技 #新莱应材 #奥普光电
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