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小巢学电子2年前
它就是多重曝光技术，SAQP。利用该技术，DUV光刻机可绕过EUV，实现7纳米工艺。演示画面显示，最终芯片图案密度可比初始光刻高出4倍。#芯片
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微纳研究院2年前
#芯片制造 多重曝光技术是一种通过多次曝光来实现更高分辨率的方法。LELE、LFLE和SADP是目前常用的多重曝光技术。 LELE技术采用两次曝光，通过不同的光刻层来叠加达到更高的分辨率。LFLE技术则是通过多次按图案的曝光实现更高的分辨率。而SADP技术则是通过正交光刻和环绕表面生成更复杂的光刻图形。 多重曝光技术对于光刻精度的提高起到了至关重要的作用。LELE和LFLE等技术可以实现比传统的单次曝光更高的分辨率，甚至可以达到4倍的精度。
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谈三圈2年前
如何制造7纳米芯片：DUV光刻机与多重曝光 #芯片 #半导体 #光刻机 #手机 #科技数码
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知芯阿瞒1年前
多重曝光之LELE 多重曝光过程详解，LELE的方法你听过吗？#半导体 #光刻机 #蚀刻 #多重曝光 #工艺 @DOU+小助手 @DOU+上热门
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这个小明1天前
硬核：如何在家手搓一台光刻机？ #科普 #物理 #科学实验 #光刻机 #每天跟我涨知识
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翻滚吧涛叔4月前
FinFet芯片电镜图：中芯国际多重曝光浅论 #FinFET #芯片 #电镜图 #多重曝光 #SAQP
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MEMS1年前
步进式曝光是指光刻机在进行光刻时，以一定的步距（step size）逐次曝光硅片上的不同区域，而非一次性曝光整个硅片。这种曝光方式常见于半导体制造中的步进重复投影光刻机（Stepper），尤其是适用于大规模集成电路（LSI）和超大规模集成电路（VLSI）的制造。 而UV曝光则是指使用紫外线作为曝光光源进行光刻的过程，这是大多数现代光刻机（包括步进式光刻机）采用的基本曝光原理。无论是步进式光刻还是扫描式光刻（如扫描式投影光刻机，Scanner），它们都可能使用UV光源进行曝光，区别在于曝光的方式和系统设计，而不是光刻板本身。#MEMS #微纳加工技术 #光刻
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深度思索deepthink2天前
ASML 手里一万多项专利像地雷阵。但就像一位工程师在朋友圈写的："我们没说要一夜颠覆，只是每天把极限往前推0.1纳米，一百天后就是一条新跑道。"#中国#光刻机#28nm#自主#卡脖子
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老渔观世界1月前
一次搞懂光刻机 #芯片 #半导体 #光刻机
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碳基冯1年前
芯片制造中，什么是多重曝光技术?有哪几种方式?一个视频说清楚 #多重曝光技术 #芯片制造技术 #多重曝光
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MAPTOP芯片制备6天前
如何使用DUV光刻机制备7纳米芯片？ 用DUV光刻机做7纳米芯片的工艺奥秘 工艺开发，制备高精度芯片的多重曝光技术 SADP自对准多重成像技术 #智能制造 #光刻机 #EUV光刻机 #工艺开发
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赤峰刘成5天前
华为 Pura 80 引爆光刻游击战 #华为Pura80 #中国光刻机 #ASML 华为 Pura 80 搭载的麒麟 9010S 芯片震撼发布，标志着中国在光刻机技术上取得重大突破。通过自研 DUV 光刻机和多重曝光技术，中国工程师成功实现 7nm 级芯片量产，打破了 ASML 的技术垄断。这一突破不仅让华为重新站上高端手机市场，更彰显了中华民族自强不息的创新精神，为全球半导体产业格局带来深远影响。
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聊湾区看世界1年前
国产光刻机最高制程突破65纳米多重曝光可以做到8纳米制程 #光刻机
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波的播5月前
咱家的光刻机差距到底有多大？#即时评述 #光刻机#激光#纳米#封装
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太阳雪7月前
#光刻机 #euv与duv光刻机的区别 #国产光刻机 #光刻机研发 #光选机工作原理
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翔哥说商业1年前
印度网友不信：中国造出很牛的国产光刻机？咖喱味苹果来了！ #国产软件 #民族品牌 #芯片 #科技 #华为@DOU+小助手 我国研发的光刻机，精度高，支持多重曝光。印度网友称其在光刻软件领域有实力，苹果在印度生产iPhone 16。华为三折叠手机预约量达625.9万台！
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算力之光4月前
揭秘：台积电顶级利器，AMSL 2nm天价光刻机曝光！ #台积电 #光刻机 #半导体 #芯片 #AMSL
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股市明言7月前
热点：中国半导体亮剑，新凯来三大杀招震惊世界
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石广智谈摄影3周前
如今我们虽已进入数码与AI技术飞速发展的崭新时代，但多重曝光技艺并未被时代的洪流所淹没，在众多相机中依然保留着这一功能，且技术更先进，使用更轻松。#原创作品 #创意 #摄影技巧
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凤凰网科技2年前
如何制造7纳米芯片：DUV光刻机与多重曝光#芯片 #7纳米 #苹果 #骁龙 #麒麟芯片
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南京松下影像5月前
松下S1RM2的多重曝光如何使用 本期视频教大家松下S1RM2的多重曝光如何使用，大家有什么问题也可以私信我们。#松下s1rm2 #多重曝光拍摄 #相机使用技巧 #摄影器材
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墨行1周前
光学领域的传奇——卡尔蔡司集团（Carl Zeiss AG）#涨知识 #科技改变生活 #光刻机 #蔡司#芯片
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太阳雪1周前
#光刻机 #新进展 #国产光刻机 #技术突破 #热门话题
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大眼Talk1年前
国产光刻机曝光，套刻等于8纳米，是什么样的水平？ #光刻机 #科普
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钟小乖4月前
ASML宣布研发最先进EUV光刻机，瞄准2035年以后技术！ 这是典型的在巨大压力下的心理安慰！ #军事科技 #大国崛起 #爱国 #科技 #热门
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MARELUX1天前
42511 Mirage 20 慢门多重曝光引闪器 ￥2099 - 材质：阳极氧化铝合金 - 尺寸：100 毫米（宽）x 60 毫米（高）x 40 毫米（深） - 重量：258 克 - 防水深度：100 米 - 电池：1 节 10440 锂电池 #MARELUX #慢门拍摄 #海洋生物 #水下摄影 #神奇动物
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萤火科普3月前
中国光刻机突破“卡脖子”！国产芯迎来曙光？ 面对西方技术封锁，中国自主研发的KrF和ArF光刻机取得重大突破！ArF光刻机套刻精度达8纳米，通过多重曝光甚至能支持7纳米芯片制造。虽然主要用于28纳米等成熟制程，但这一突破打破了ASML的垄断，让汽车电子、工业芯片等关键领域不再受制于人。目前，中国已采购1400台ASML光刻机，再加上国产设备，中低端芯片供应终于稳了！#中国光刻机突破 #国产芯片崛起 #KrF #ArF #中国科技
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凭哥有话说7月前
国产光刻机突出重围，美国芯片战全面败溃 2025年上海半导体设备材料展上，新凯来发布全套芯片制造设备 | 芯片界迎来DeepSeek时刻 | 国产多重曝光光刻技术成熟 | 芯片战五年，美国一事无成一无所获，中国建立全起完备的芯片制造产业链 #中国力量 #中国制造 #爱国正能量 #美国霸权 #新凯来
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爱玩的大栋4周前
手机多重曝光怎么玩 #红魔11pro #京东新品 #多重曝光 #手机拍照 拍照和游戏都很猛的旗舰手机
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算力之光3周前
“美积电”首度曝光ASML N4/N5极紫外光刻机EUV工作全程 #台积电 #芯片 #英伟达 #ASML #光刻机
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龙白滔博士5月前
[0615]无EUV创5nm奇迹，中国如何做到的？ 无EUV创5nm奇迹，中国如何做到的#龙白滔#锚定中国#半导体#光刻#蚀刻#华为#中芯国际#中美博弈#多重曝光#EUV#DUV#晶形
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钟小乖6月前
EUV光刻机领域，首个重磅专利曝光，外媒解读为：打破垄断！ 中国在EUV光刻机领域的成绩让西方震惊！ #大国崛起 #军事科技 #爱国 #科技 #热门
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MOSS1周前
ASML紫外光刻机 High-NA EUV(高数值孔径极紫外光刻机)是ASML公司研发的半导体制造设备，采用0.55数值孔径光学系统，可实现8纳米分辨率，支持3纳米及以下制程工艺，并为1纳米节点提供技术储该设备通过单次曝光使电路刻蚀精细度提升1.7倍，成像对比度提高40%，晶体管密度达到前代系统的2.9倍，有效降低芯片功耗并提升运算速度#精密制造 #EUV高数值 #光刻机 #智能制造
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钟小乖1月前
物镜系统最新突破，7nm多重曝光成为现实，完全国产指日可待！ 每一个突破都来之不易！ #军事科技 #大国崛起 #科技 #爱国 #热门
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科学打字机1年前
未来一旦台海发生战事，阿斯麦将远程锁定中国光刻机 #未来战争 #光刻机 #军事科技 第三集
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信创世界5天前
中国科学家在半导体制造领域取得重要科学发现，仅将曝光后烘烤温度提高10°C，即可在使用现有深紫外（DUV）光刻设备的情况下，将芯片缺陷密度降低99%以上。#芯片 #光刻机 #半导体
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钟小乖5月前
光刻光源，又见曙光！全固态DUV光源，能满足3nm工艺制程！ 所有的技术突破，都是被逼出来的！ #军事科技 #大国崛起 #热门 #爱国 #科技
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钟小乖8月前
国产高端EUV光刻机消息在曝光，中国技术路线完全摆脱卡脖子！ 国产高端EUV光刻机的激光诱导放电等离子体技术路线，与ASML的激光等离子体技术路线相比更具优势。 #军事科技 #大国崛起 #爱国 #科技 #热门
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正经摄影师阿山（直播摄影教学）4周前
一张照片如何拍出两个自己 #多重曝光 #相机多重曝光 #双重曝光#摄影技巧
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快科技3周前
台积电“银色高速公路”首度公开！EUV光刻机生产芯片全程曝光#台积电 #银色高速公路 #EUV光刻机
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翻滚吧涛叔1年前
光刻机系列（四）瑞利判据计算国产光刻机单次曝光制程 #国产氟化氩光刻机 #瑞利判据 #半导体 #关键尺寸 #CD
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潘扬老师3周前
台积电放弃，阿斯麦光刻机，看上新凯来？ #曝台积电放弃采购ASML顶级光刻机 #新凯来 #台积电 #硬核深度计划 #科普
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雾里看花4天前
英媒爆料：中国用ASML“落后”光刻机生产出先进芯片#新科技 #芯片 #半导体 #科技创新 #抖音推广 @抖音小助手
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阿诺的摄影日记3周前
手机摄影玩法多重曝光 用手机也可以玩双重曝光摄影法，两分钟让你拍出不一样的照片，这次先拿风光照来做个示范，抛砖引玉，期待大家能有更多更好的摄影作品哦！#阿诺的摄影日记 #手机摄影 #构图技巧 #多重曝光 #随拍
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郑州摄影师-拾贰1月前
#索尼a7m5 的硬件谍照对你有没有吸引力。我感觉如果支持多重曝光，那才是爆杀的点。 索尼什么时候能绕过这个功能一刀，让我们也感受下拍灯光秀。#摄影摄像 #硬件 #多重曝光 #索尼刀法
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哆哆a梦的魔法口袋2年前
#光刻机研发 #EUV EUV光刻机瓶颈待破，下一代技术怎么走？
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火山数码科技7月前
华为芯片拆机曝光！国产光刻机彻底站起来了！#华为芯片 #新凯来 #国产光刻机
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老周讲科技2周前
中国光刻机逆袭，ASML从傲慢到慌神。 #老周讲科技 #ASML #光刻机
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ViU创工坊2年前
国产90nm的光刻机，经多重曝光后，能生产28nm芯片？#数码科技 #科技与狠活 #科技改变生活 @DOU+上热门
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上气4年前
解读台积电如何突破到2nm一
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硅基说书人8月前
华为的多重曝光技术如何突破“物理极限” #半导体设备 #视觉盛宴 #智能制造 #科技感爆棚 ##ai
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科普陕西4年前
光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备 #光刻机
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宁夏鑫华朋-相机电脑专业三十年免费教摄影3周前
#电子说明书在宁夏买#正品全新 摄影器材，学习摄影知识就来#华鹏摄影俱乐部 今天我们就来看看#EOSR5ll #多重曝光 是什么意思？
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翟老师玩富士2天前
能看看你用富士拍的舞台照片吗#摄影#舞台#胶片模拟#富士#多重曝光
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PM科技1年前
据媒体报道，上海微电子正在研制的28nm浸没式光刻机通过多项验证，“预计”2024年交付，该光刻机通过多次曝光，甚至可以支持7nm芯片制造，一旦量产将解决我国大部分芯片制造需求。#上海微电子#光刻机#28nm国产光刻机
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此生挚爱4年前
光刻机（Mask Aligner）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。#车间实拍 #光刻机 #自动化
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微纳研究院2年前
#蔡司镜片 #光刻机研发 一套完整的光刻机包括多个组成系统，主要包括曝光系统、自动对准系统、整机软件系统等。其中，曝光系统更是包含了照明系统和投影物镜。蔡司的光学镜头有何过人之处，正如前面说到的光刻机制造零件中至关重要的三大核心器械——光源、镜头、双工作台，在这其中光学镜头对于一台光科技来说极其重要，对于国家自主研制光刻机也十分重要。作为涉及领域涵盖摄影、测量、显微镜、医疗、天象仪等等很多高精密领域的蔡司公司来说，光学镜片的发展历史始终都有蔡司的身影。可以说，蔡司的历史，就是一部光学的历史。
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特种气体应用探秘5月前
小米玄戒O1光刻黑科技：氩/氟/氖混合气破局3nm工艺 #小米芯片 #玄戒O1 #光刻气体 #混合气体厂家 #纽瑞德气体
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大佬百科3周前
荷兰分析师说，中国还要5年才能追上ASML的DUV光刻机 #科普一下 #光刻机
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你好潘扬老师1年前
台湾专家称赞，中国成功造出光刻机，氟化氩光刻机，全面推广 #头条双星激励计划 #工信部推广国产氟化氩光刻机 #中国芯片崛起 #光刻机 #硬核深度计划
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宇策大师兄1月前
光刻机突围战！新凯莱引爆国产替代浪潮5nm传闻背后的产业真相
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伍伍说摄影📷4周前
100种摄影手法-双重曝光 #摄影 #电影感 #人像拍摄 #摄影教程 #摄影技巧
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瑶哥不无聊2周前
外媒：中国DUV光刻机开启试验欧美顿感慌了！#强烈推荐 #厉害了我的国 #光刻机#半导体#硬核深度计划
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