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天雨侠3天前
2026年3月25日,全球半导体行业风向标SEMICON China 2026在上海新国际博览中心盛大启幕。 苏大维格携手子公司维普半导体,以 “光刻+检测” 全链条产品布局惊艳亮相,在N1馆1281与T2435双站联动,集中展示封装数字光刻系统、数字化紫外直写光刻系统、纳米压印光刻系统及半导体检测解决方案, 打造“光刻 + 检测” 全链条闭环,以自主核心技术赋能半导体产业高质量发展。 全球首次亮相的iPackLitho先进封装数字光刻系统,成为全场焦点。该系统面向先进封装,分W型晶圆级、P型面板级机型,采用无掩模数字化光刻与可编程阵列空间光调制技术,支持多层套刻与自适应对准补偿,有效适配翘曲与形变,可快速响应设计变更,为先进封装提供高适应性版图布线方案,助力半导体、CPO等高集成与高可靠制造。现场技术人员讲解了设备对2.5D/3D先进工艺的多层套刻能力,赢得高度评价。 展位还展示了数字化紫外直写光刻系统,攻克超大面积微纳形貌高精度兼容光刻国际难题,120吋紫外三维直写光刻装备填补国内空白,实现微纳制造从平面到三维跨越。设备全数控无掩模,可直接从数字文档加工至工件,适配先进封装、泛半导体、光子器件研发与量产,以自主可控技术打破国外垄断,夯实半导体产业链底层光刻支撑。 苏大维格率先实现纳米压印光刻系统工业化落地,突破模具、系统、材料、工艺四大核心难题,独创增材制程,实现卷对卷、卷对平规模化量产。技术突破传统光刻衍射极限,可精准复制纳米级图形结构,兼具低成本、高效率、绿色低碳优势,适配柔性光电子、立体成像、先进封装等量产场景,显著降本增效,推动泛半导体产业绿色升级。 #苏大维格 #先进封装数字光刻机 #紫外直写光刻机 #纳米压印光刻机 #国产光刻机
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SEMICON CHINA 今年的展会拍摄摄影摄像圆满结束 SEMICON CHINA 2026上海盛会启幕,全球半导体行业精英云集,1500+顶尖展商、18万+专业观众齐聚新国际博览中心,每一个展台、每一场论坛、每一次新品发布,都是企业彰显实力、链接客户的关键契机。专业展会摄影摄像团队全程驻场,用镜头定格品牌高光,助力企业高效引流、精准转化。 我们深耕展会摄影摄像领域多年,深谙科技展会拍摄痛点,专注半导体行业专属拍摄需求,承接全场景服务:展台全景/细节拍摄、新品发布全程跟拍、行业论坛/峰会录制、高管专访拍摄、现场花絮快剪、直播导播、展会宣传片定制。配备高清设备与专业后期团队,拒绝敷衍拍摄,精准捕捉展台设计亮点、产品技术细节、现场互动氛围,兼顾专业性与传播性。 高效交付是我们的核心优势,展会当天可出花絮短片,24小时内交付高清成片,让企业快速借助朋友圈、行业社群、短视频平台传播,抢占展会流量红利。团队随叫随到,灵活适配展会突发需求,全程一对一跟进,无需企业专人对接,省时省力更省心。 展会流量转瞬即逝,优质的影像素材是企业后续品牌宣传、客户回访、行业背书的重要支撑。SEMICON CHINA展会档期紧张,现接受预定,用专业镜头为你的品牌赋能,定格展会每一个价值瞬间,助力企业在众多展商中脱颖而出,实现曝光与获客双提升!!#展会摄影 #展会摄像 #会议摄影摄像 #现场直播拍摄 #展台拍摄
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