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sina4天前
韬(τ)定律是摩尔定律范畴还是弯道超车的产物 #摩尔定律 的本质从来不是"尺寸",而是"时间",摩尔定律这60年干的所有事——把晶体管从微米缩到纳米——终极目的不是为了"小",而是为了让信号跑快点τ小点尺寸只是手段,时间是目的。 从终极目标层面上来看#韬定律 属于摩尔定律范畴" 摩尔定律从第一天起就不“平”,哪怕只看经典 CMOS 那条线,真正推动密度/性能/功耗前进的,也不只是“XY 缩投影”,而是一套立体+层级的工程包: • 纵向本身就有层级:源/沟道/漏的掺杂分布纵向剖面、栅介质厚度、应变/应力工程、接触与硅化物、然后才是互连的 M1/M2…Mn 这种明显的 Z 轴层级。 • 所谓“3D”不是最近才发明:FinFET 把栅控制做成三维鳍;GAA/nanosheet 更进一步把沟道变成悬空叠层——这些都已经在“Z 轴”上做文章,否则 7/5/3nm 这档早就跑不动了。 • 所以严格说:现代工艺的“密度”= XY 投影密度乘以有效层数/有效纵向利用率乘以良率/成本/功耗的可交付性。 它从来就是多维优化,只是外界习惯用一个“几纳米”当代言词。 我们说#韬τ定律 是弯道超车,是颠覆、倒不如说是摩尔定律的继承与发扬,摩尔定律等于几何缩微范式 • 实现路径:晶体管无限变小,线长无限变短,韬无限变小,性能无限变大 • 约束条件:靠光刻机+工艺节点驱动 • 现状:物理墙 + 经济墙接近极限 韬定律 = 时间缩微范式 • 实现路径:直接压韬,逻辑折叠/协同设计/系统重构,性能放大 避开“必须更小"约束,综合以上,韬定律是在摩尔定律发展到极限时间节点时,抛开众所周知的必须变小这个约束,而只追求韬这个结果的一种做法,因为摩尔定律最终结果也是韬,尺寸只是手段,时间是目的,如果能够绕开卡脖子的小而达到同样的时间的目的,也未尝不可,但要是说超越、甚至颠覆摩尔定律,那也很不现实,只能说是不再那么受制于人了,以上为个人观点,仅供参考!
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