步进光刻机教程

stepper 是 什么？ stepper 又叫不仅投影式光刻机。不仅是 stepper 的 核心，不仅是光刻机，工作时将眼膜板上的芯片图案通过光学系统缩小，投影到涂有光刻胶的硅片上。它以少对单位逐步移动，每次移动后， stepper 会曝光下一个预定区域，直到完成整个硅片的光刻。 一个 shad 就是 一个曝光区域，每个 shad 包含了多个芯片图案，其优势显著，可避免大面积曝光导致的误差，大幅提升光刻分辨率和精度，广泛应用于电脑 cpu 手机芯片等大规模集成电路制造。

好消息，国产光刻机终于被政府采购了！昨天，中国政府招标网发布了一个新的公式， 科学技术部下面的某个科研部门啊，以单一采购来源的形式，向上海微电子采购了一台不晶石光刻机，中标金额一点一亿。这台不晶石光刻机的型号为 s s c 八百杠十。 所谓的不仅是光刻机，并不是低端的光刻机，它只是一个技术路线。我们常说的 d v 光刻机， e v 光刻机都采用的是不近视，不近视的技术，原理就是眼膜与晶源同步曝光在不经移动晶源。 这台国产的不晶石光刻机啊，它的光源采用的是二百四十八纳米 carrefor 深紫外光源，透刻精度可以小于等于十五纳米， 什么概念呢？就是经过多重曝光，如果对准比较准的话，他可以生产出极限的十五纳米左右的芯片，但十五纳米以下的芯片他是生产不了的，他的成熟工艺是八十到一百一十纳米， 这个八十到一百一十纳米这种芯片啊，是目前市场需求量是最大的。 这台不仅是光刻机，它和 euv 光刻机和 duv 光刻机区别就在于光源的波长上。如果说我们把这个光源的波长缩短到一百九十三纳米，那就意味着它可以干出更大的事情。 这次政府招标啊，以单一采购来源的形式向上海微电子采购这台光刻机，就意味着国家在支持我们国产的光刻机，我们不再向西方购买同类的设备，因为我们国产的已经完全可以替代了， 它的象征意义极强。这也说明我们国产的光刻机啊在技术上已经达到了相当高的水平， 未来我们会根据现有的技术水平啊，做更多的一些突破，到那个时候我们对于西方光刻机的依赖将会彻底的减少，毕竟别人有是别人的，我们自己有才是属于我们自己的。 这台光刻机的采购意味着未来啊，在整个半导体产业链领域，会有更多的高端的国产光刻设备进入产业链。我是钟小乖，我们继续分享前沿动态。

昨天中国政府采购网公布了一则公告，上海微电子中标了一台步进扫描光刻机，成交金额是一点一亿人民币，具体的设备型号是 s s c 八零零杠幺零。 大家都知道呢，上海微是目前国内呢唯一能够拿出光刻机整机的厂商，背后是链接了国产的光源物镜以及工作台的全产业链。但这几年呢，比较低调，这次也是因为中标了科技部的项目，所以才厉行的对外公示。 不出意外呢，引起了半导体圈的高度关注，尤其这台光刻机的型号在上海微的官网上并没有介绍，因此呢，不少人就好奇这台机器是前道还是后道，能实现多高的芯片制成。 今天这期视频呢，就科普一下。首先该机器的型号的命名， s s c 八零零，杠幺零已经提示了不少信息， 先看前缀， s s c 这是啥意思呢？其实 s s 就是 步进扫描式 type and scan 的 缩写。再来看第三个字母 c 是 啥意思呢？可能大家对上海微之前推出的六零零系列产品不熟悉，罗克多长期关注这一领域，就着公开的信息呢，给大家介绍一下， 目前上海微官网的信息其实已经是很久没有更新了， s s a 六零零应该指的就是使用了氟化亚的光源，分片率可以达到九十纳米， 而 s s c 六零零使用的是浮华克的光源，分辨率是一百一十纳米。 s s b 六零零使用的是 ion 光源，分辨率在二百八十纳米。 那么这次的 s s c 八零零就是一台使用了浮华克光源的步进扫描式 duv 光刻机，定位前到成熟之成， 佳能阿斯麦的传输制程的光刻机呢，也都是步进扫描式的光刻机。第二，顺便介绍一下上海微电子现有的产品系列有两百、三百、五百、六百系列，其中两百系列是用于 lcd m led 的 显示屏制造， 三百系列是用于风力气垫，麦姆斯的传感器制造，五百系列是用于芯片的分装，属于是厚道。而六百系列是之前已经公开的比较先进的前道设备，也就是对金源呢进行曝光。 这次是八百系列的第一次对外公布，可以认为八百系列是在六百的基础之上进行了迭代升级。而根据采购公告批录的专家评委团的意见呢，也能够印证这一点， 这台光刻机分辨率小于等于一百一十纳米，拓克精度小于等于十五纳米，显然这个分辨率是福哈克的光源，不是福哈亚。而至于升级的部分呢，主要是在拓克精度上面。 大家还有印象没有，去年工信部发布了首台重大技术装备推广应用指导目录二零二四年版，其中呢，就提到了一台福华克光刻机，以及一台更先进的福华亚光刻机，并没有提及厂商，哎，也没有提及型号，但其实不提呢，也没有啥影响。 工信部文件对这台福华克光刻机的参数描述是，分辨率小于等于一百一十纳米，而套刻精度是小于等于二十五纳米。 而到了今年，这台福华科的光刻机呢，参数是拓刻精度小于等于十五纳米，其实呢，就是技术升级了，从型号的命名看， s s c 八零零杠幺零，这个后面的杠幺零一般呢也会指拓刻精度， 那么也可以理解，机器的实际的拓刻精度可以到十。拓刻精度有什么含义呢？可以把芯片的制造呢，想象成是在支架盖大小的底座上盖摩天大楼， 一层一层的盖上去呢，需要上下对齐，不能够歪了，如果歪了在芯片里就会造成短路。这里的套克精度指的就是野魔版之间的对准能力，精度越高，芯片的量率就越高。到这里一些朋友可能会觉得有点遗憾，这次公式的这个参数升级好像意思不大， 不是外界期待已久的突破，卢克多还是之前的看法。第一，从成熟制程的实际场能的情况，以及终端的芯片的供应能力来看，还包括外媒时刻不停的关注度来看，咱们本土的成熟制程的场能呢，正在越来越丰富。因此，对国产的大机器的突破，外界要有耐心，也要有信心。 第二，从全球的发展来看，光刻机是一项精密的工程，每一步呢都要走踏实，不可能一口吃个胖子。不管是上海微还是国内的其他的企业，要想在国产的先进光刻机上面取得突破，该花的这个时间成本肯定还是要花的。 例如啊，这次公开的 s s c 八零零杠幺零可以对比一下国际上同类的产品，像佳能呢，是被卡死在成熟之城，其福华克的光刻机在特殊的工艺的打磨下，套刻精度可以达到四纳米，能够大大的节省金元和研磨板，提高良率。 所以呢，咱们实话实说，上海威还有努力升级的空间，加油！第三，不管是国产的 duv 还是 euv 的 研发，每一步呢，走的都很踏实，而且是摸着国外的经验过河，面对封锁，国产替代的需求也很旺盛。因此啊，先进光刻机最终的突破一定会更快的到来，会比阿斯麦用的时间呢更少。

哈喽，大家好，今天咱们来聊个最近挺火的话题，上海微电子中标了一个一点一亿的光刻机项目，这事你听说了吧？ 当然听说了，这可是咱们半导体行业的大新闻啊。不过我还真有点好奇，这个一点一亿的项目具体是做什么的？ 哎，这个问题问的好，其实这个项目全称是步近扫描式光刻机研发与产业化，简单说就是要研发新一代的光刻机设备。你知道吗？现在咱们国内最先进的就是上海微电子的二十八纳米光刻机，这次的项目应该是要往更先进的智城推进。 哦，原来是这样，那这个项目为什么这么受关注啊？这你就不懂了吧，光刻机可是芯片制造的核心设备啊，相当于芯片工厂的印钞机。你想想，要是咱们能自己造出先进的光刻机，那不就不用看别人脸色了吗？ 对对对，我听说现在全球能造高端光刻机的就只有荷兰的 asml 一 家，咱们确实得加把劲。那上海微电子这次能拿下这个项目，是不是说明咱们的技术已经很成熟了？ 成熟倒还谈不上，不过确实是个很大的进步。你知道吗？这次项目的招标方是国家集成电路产业投资基金，也就是咱们常说的大基金。能被大基金看上，说明上海微电子的技术路线是得到认可的。 哦，原来如此，那这个项目具体会用到哪些技术啊？这个我还真研究了一下。步进扫描式光刻机的核心技术主要有三个，一是精密运动系统，三是对准系统。 其中光学系统是最难的，需要用到高精度的镜头和光源。那咱们国内有能提供这些核心部件的供应商吗？ 当然有啊，比如说光学系统，咱们有长春光机锁和上海光机锁，他们在高精度镜头方面已经有了不少积累。还有光源，咱们有科翼宏源，他们能生产深紫外光源。哇，没想到咱们国内还有这么多厉害的供应商。那这些供应商和上海微电子是什么关系？ 他们都是产业链上的合作伙伴，比如说科技宏源，就是上海微电子和中科院微电子所共同成立的公司，专门研发光刻机的光源系统。 哦，原来是这样，那这次项目的成功是不是意味着咱们离自主研发高端光刻机又近了一步？ 那是肯定的，不过咱们也得清醒一点，高端光刻机的研发可不是一蹴而就的，需要长期的投入和积累。比如说 asml 的 euv 光刻机就用到了全球各地的顶尖技术，咱们还有很长的路要走。 没错没错，不过能有这样的进步已经很不容易了。对了，你觉得这个项目对咱们国内的半导体产业会有什么影响啊？ 影响可大了去了。首先他能带动整个光刻机产业链的发展，让更多的国内供应商参与进来。其次他能提高咱们国内芯片制造企业的话语权，不用再受别人的限制。最后他还能吸引更多的人才和资金进入这个领域，形成良性循环。 听你这么一说，我对咱们国内的半导体产业更有信心了。那你觉得咱们普通人能为这个产业做些什么呢？ 其实也不用做什么特别的，只要多关注，多支持咱们国内的半导体企业就行了，比如说买手机的时候可以考虑一下搭载国产芯片的机型，看到相关的新闻的时候多转发多评论，让更多的人了解这个产业。 对对对，众人拾柴火焰高嘛。那今天咱们就聊到这里吧，希望咱们国内的半导体产业能越来越好。好的，谢谢大家的收听，咱们下期再见。