弯道超车,尼康是如何做出7纳米浸润式光刻机的?#光刻机 #尼康 #科技

尼康光刻机做到多少nm了

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发布时间:2026-03-28 08:24
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尼康NSR-2205i14E2光刻机是半导体制造中的核心设备,专用于2至8寸晶圆产线。它采用365nm i-line光源,凭借0.63的数值孔径与1:5的精密投影技术,可稳定实现≤350nm的分辨率,套刻精度高达≤40nm。该机型以高稳定性与出色的性价比,广泛服务于LED、MEMS及化合物半导体等领域,是成熟工艺中兼具性能与成本优势的理想选择。#光刻机 #尼康 #半导体设备 #芯片制造
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